HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術(shù)，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強(qiáng)大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對(duì)準(zhǔn)：可選的...

EVG ? 510 HE熱壓印系統(tǒng) 應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn) EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 SmartNIL技術(shù)可提...

IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋...

EVG ? 720特征： 體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 專有SmartNIL ?技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù) 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式 可選的頂部對(duì)準(zhǔn) 可選的迷你環(huán)境 適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái) 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性 系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 75至150毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2...

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。 EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米...

EVG610特征： 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG610附加功能： 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150...

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。 EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和...

面板廠為補(bǔ)償較低的開口率，多運(yùn)用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點(diǎn)是用電量較高。若運(yùn)用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時(shí)間長(zhǎng)，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會(huì)形成細(xì)微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個(gè)創(chuàng)新任務(wù)。若加速NI...

UV納米壓印光刻系統(tǒng) EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) ■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) ■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 ■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 ■支持***的UV-LED技術(shù) ■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材 ■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 ■專有的SmartNIL?技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù) ■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作 ■盒帶間自動(dòng)處理以及...

EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。 EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。四川納米壓印...

EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)，在100毫米范圍內(nèi)。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名，它以**小的占位面積提供了***的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動(dòng)批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNI...

EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對(duì)*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場(chǎng)領(lǐng)...

它為晶圓級(jí)光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級(jí)納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級(jí)光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場(chǎng)中推廣晶圓級(jí)生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動(dòng)化模制和脫模的專業(yè)知識(shí)，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級(jí)光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備...

HERCULES NIL 300 mm提供了市場(chǎng)上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。 HERCULES ? NIL特征： 全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu) 支持各種結(jié)構(gòu)...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術(shù)，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強(qiáng)大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對(duì)準(zhǔn)：可選的...

它為晶圓級(jí)光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級(jí)納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級(jí)光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場(chǎng)中推廣晶圓級(jí)生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動(dòng)化模制和脫模的專業(yè)知識(shí)，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級(jí)光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備...

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。 NILPhotonics?能力中心-支持和開發(fā) NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。 歡迎各位客戶來樣制作，驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。 EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用...

EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個(gè)開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時(shí)也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）***宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)（AR/MR）頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/...

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的相當(dāng)有成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。 EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。 新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步...

據(jù)外媒報(bào)道，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡(jiǎn)化了低成本高性能、無線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFE...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技...

EVG610特征： 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG610附加功能： 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸） 標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150...

具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通...

EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對(duì)*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案?！? EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場(chǎng)領(lǐng)...

SmartNIL技術(shù)簡(jiǎn)介 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。 EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。**納...

EVG ? 510 HE熱壓印系統(tǒng) 應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn) EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 SmartNIL技術(shù)可提...

納米壓印光刻（NIL）技術(shù) EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。 其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含： EVG?610 EVG?620NT EVG?6200NT EVG?720 EVG?7200 EVG?7200LA HERCUL...

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印 EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。 EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。芯片納米...

IQ Aligner?：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) ■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用 ■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用 ■三個(gè)**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償 ■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能 紫外線壓印_紫外線固化 印章 防紫外線基材 附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記 用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。 μ-接觸印刷 軟印章 基板上的材料 領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章 EV...