納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印
EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)，使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。芯片納米壓印有誰(shuí)在用
HERCULES NIL 300 mm提供了市場(chǎng)上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
原裝進(jìn)口納米壓印有誰(shuí)在用 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法。
其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國(guó)家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過(guò)15500名，2017/2018財(cái)年的銷售額為?？偛课挥诘聡?guó)美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)（CarlZeissFoundation）全資擁有?？柌趟净饡?huì)是德國(guó)歷史**悠久的私立基金會(huì)之一，同時(shí)也是德國(guó)規(guī)模比較大的科學(xué)促進(jìn)基金會(huì)之一。作為一家基金公司，肖特對(duì)其員工，社會(huì)和環(huán)境負(fù)有特殊責(zé)任。關(guān)于EV集團(tuán)（EVG）EV集團(tuán)（EVG）是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應(yīng)商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL）與計(jì)量設(shè)備，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)和檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務(wù)與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標(biāo)識(shí)是EVGroup的注冊(cè)商標(biāo),SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊(cè)商標(biāo)。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)
NILPhotonics能力中心是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。
歡迎各位客戶來(lái)樣制作，驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。
EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。
EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案
納米壓印光刻的介紹：
EV Group是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)**設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過(guò)多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40 nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。EVG520 HE納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造。芯片納米壓印有誰(shuí)在用
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
芯片納米壓印有誰(shuí)在用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】的公司，是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。公司自創(chuàng)立以來(lái)，投身于磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅(jiān)定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路，既要實(shí)現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長(zhǎng)，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場(chǎng)，以敏銳的市場(chǎng)洞察力，實(shí)現(xiàn)與客戶的成長(zhǎng)共贏。