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    但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題：剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分，回收率低。為了解決這一問題，現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng)，而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分，但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料，只能用于其他要求較低的樹脂需求場所。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的是為了提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置更為合理、使用方便可靠的光刻膠廢剝離液回收裝置，從根本上解決現(xiàn)有回收裝置回收率低的問題，同時分級回收輸出線性酚醛樹脂成分，分級儲存，以用于不同場合，物盡其用。為達到上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是：一種光刻膠廢剝離液回收裝置，包括攪拌釜和與攪拌釜連通的過濾罐，攪拌釜頂部設(shè)有廢剝離液投料口，其技術(shù)要點是：所述過濾罐的數(shù)量為兩個，由一級過濾罐和二級過濾罐組成，所述一級過濾罐和二級過濾罐在垂直方向上位于攪拌釜下方，一級過濾罐和二級過濾罐的進料管路分別與攪拌釜底部連通，且進料管路上分別設(shè)有電磁閥，所述一級過濾罐的底部出液口連接有提升泵，所述提升泵的出料管路末端與攪拌釜頂部的循環(huán)料口連通，所述攪拌釜頂部另設(shè)有功能切換口。天馬微電子用的哪家的剝離液？無錫剝離液供應(yīng)商

    圖3是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖二，其離子注入步驟。圖4是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖三，其顯示離子注入后光刻膠形成了主要光刻膠層和第二光刻膠層。圖5是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖四，其顯示光刻膠膨脹。圖6是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖五，其顯示光刻膠炸裂到臨近光刻膠。圖7是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖六，其顯示光刻膠去除殘留。圖8是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖一，其顯示首先剝離去除主要光刻膠層。圖9是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖二，其顯示逐步剝離去除第二光刻膠層的中間過程。圖10是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖三，其顯示完全去除光刻膠后的襯底。圖11是采用現(xiàn)有技術(shù)剝離去除光刻膠殘留缺陷示意圖。圖12是采用本發(fā)明剝離去除光刻膠殘留缺陷示意圖。具體實施方式以下通過特定的具體實施例說明本發(fā)明的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所公開的內(nèi)容充分地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與技術(shù)效果。本發(fā)明還可以通過不同的具體實施方式加以實施或應(yīng)用，本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點加以應(yīng)用，在沒有背離發(fā)明總的設(shè)計思路下進行各種修飾或改變。需說明的是，在不的情況下，以下實施例及實施例中的特征可以相互組合。池州剝離液剝離液，高效去除光刻膠，不留痕跡。

    本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實施例，用于半導體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成光刻圖形阻擋層；s3，執(zhí)行離子注入，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮氫混合氣體執(zhí)行等離子刻蝕，對光刻膠進行干法剝離，氫氮混合比例范圍為4:96～30:70。s5，對襯底表面進行清洗，清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和過氧化氨混合物溶液。本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第三實施例，用于半導體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成光刻圖形阻擋層；s3，執(zhí)行離子注入，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮氫混合氣體執(zhí)行等離子刻蝕，對光刻膠進行干法剝離，氫氮混合比例范圍為4:96～30:70。s5，對硅片執(zhí)行單片排序清洗，清洗液采用h2so4:h2o2配比范圍為6:1～4:1且溫度范圍為110℃～140℃的過氧化硫磺混合物溶液。

    根據(jù)對華新光電、日東集團的剝離液成分進行分析得知，剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA)，二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG)，其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大，由以下幾種組分構(gòu)成：（1）、1～20%重量的醇胺或者酰胺，以伯胺和腫胺為主。（2）、10～60%重量的醇；（3）、10～50%重量的水；（4）、5～50%重量的極性有機溶劑，如；N-甲基吡咯烷酮（NMP），環(huán)丁基砜、二甲基亞砜（DMSO）、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。（5）、～3%重量的金屬抗蝕劑，如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出，剝離液中大部分是有機溶劑，可以加以回收資源化利用，或者將剝離廢液進行脫色凈化處理后再用于生產(chǎn)中，配成剝離液。當前國內(nèi)主要產(chǎn)生剝離液的廠家主要分布在天津及深圳一帶，均是高新技術(shù)發(fā)達區(qū)域，隨著國內(nèi)經(jīng)濟及城市的發(fā)展，剝離液產(chǎn)廢地點將越來越，也將引起環(huán)保的重視及關(guān)注。 剝離液的配方是什么？

    所述功能切換口3外部并聯(lián)有高純水輸入管線1和沉淀劑輸入管線2。所述二級過濾罐13的底部設(shè)有廢液出口20。所述一級過濾罐16和二級過濾罐13內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。本實施例中，所述一級過濾罐16和二級過濾罐13的結(jié)構(gòu)相同，以一級過濾罐16為例，由外殼1601、懸設(shè)于外殼1601內(nèi)的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋1602組成。所述壓蓋1602中心設(shè)有對應(yīng)進料管路15的通孔。所述過濾筒由均勻布設(shè)多孔1606的支撐筒體1605、設(shè)于支撐筒體1605內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)1604、設(shè)于金屬濾網(wǎng)1604表面的纖維濾布1603組成。所述支撐筒體1605的上沿伸出外殼1601頂部并利用水平翻邊支撐于外殼1601上表面，所述金屬濾網(wǎng)1604的上沿設(shè)有與支撐筒體1605的水平翻邊扣合的定位翻邊。所述支撐筒體1605的底面為向筒體內(nèi)側(cè)凹陷的錐面1607，增加了過濾面積，提高了過濾效率。所述攪拌釜10設(shè)有ph計（圖中省略），用于檢測溶液ph值。攪拌釜10由釜體8、設(shè)于釜體8頂部的攪拌電機4、與攪拌電機4連接的攪拌桿11、設(shè)于攪拌桿11末端的攪拌槳12組成，所述攪拌槳12為u字形，釜體8外表面設(shè)有調(diào)溫水套9。工作過程：1、先向攪拌釜10內(nèi)投入光刻膠廢剝離液，再向釜內(nèi)輸入高純水，兩者在攪拌釜10內(nèi)攪拌均勻。什么制程中需要使用剝離液。杭州江化微的蝕刻液剝離液銷售價格

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    所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級過濾罐和二級過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級過濾罐和二級過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋組成，所述壓蓋中心設(shè)有對應(yīng)進料管路的通孔，所述過濾筒由均勻布設(shè)多孔的支撐筒體、設(shè)于支撐筒體內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)、設(shè)于金屬濾網(wǎng)表面的纖維濾布組成，所述支撐筒體的上沿伸出外殼頂部并利用水平翻邊支撐于外殼上表面，所述金屬濾網(wǎng)的上沿設(shè)有與支撐筒體的水平翻邊扣合的定位翻邊，所述支撐筒體的底面為向筒體內(nèi)側(cè)凹陷的錐面。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述攪拌釜設(shè)有ph計，用于檢測溶液ph值。本實用新型的有益效果是：使用時，先將高純水與光刻膠廢剝離液在攪拌釜內(nèi)攪拌均勻，形成固液混合物，打開一級過濾罐進料管路上的電磁閥，固液混合物進入一級過濾罐的過濾筒中，先由一級過濾罐的過濾筒過濾得到一級線性酚醛樹脂，濾液由提升泵送往攪拌釜的循環(huán)料口，往復(fù)設(shè)定次數(shù)后，一級線性酚醛樹脂回收完成，關(guān)閉一級過濾罐進料管路上的電磁閥。無錫剝離液供應(yīng)商