ANSYS在壓力容器分析設(shè)計(jì)中的應(yīng)用
耐壓快插接頭在水壓試驗(yàn)裝置中的作用
穿艙接頭在深海環(huán)境模擬試驗(yàn)裝置的作用
耐壓快插接頭的標(biāo)準(zhǔn)與特性
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江蘇卡普蒂姆深海環(huán)境模擬試驗(yàn)裝置介紹
水壓試驗(yàn)裝置的原理及應(yīng)用
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以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向,以使該基板20上該藥液51減少,其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外,請(qǐng)一并參閱圖8與圖9所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔的態(tài)樣,當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板(本圖式未標(biāo)示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖8所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題;此外。質(zhì)量好的做蝕刻液的公司。南京BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司
所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過(guò)濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱,達(dá)到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,通過(guò)減壓閥12減壓,真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,大液滴中含有銅,通過(guò)除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過(guò)濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流板。液體在隨著氣體上升時(shí)會(huì)有慣性,因?yàn)橐后w與氣體的質(zhì)量不同,他們的慣性也不同,當(dāng)夾帶著液體的氣體以一定速度通過(guò)折流板曲折的通道時(shí),液體流動(dòng)的方向不斷在曲折的通道中發(fā)生變化,液體的慣性較大,依舊保持原來(lái)的運(yùn)動(dòng)方向,從氣體中脫離,撞擊折流板壁面從而被擋下,氣體則順利通過(guò)折流板通道排出,被擋下的液體在壁面上匯集成液流,因重力的作用從折流板上流下。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述除沫組件4為絲網(wǎng)。因?yàn)槌F組件3中的撞擊過(guò)程。深圳蝕刻液批量定制使用蝕刻液需要什么條件。
本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù):參照?qǐng)D1,可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過(guò)在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來(lái)制造。在不損傷氧化物膜的同時(shí)將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時(shí)*將氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力強(qiáng)的添加劑,由此可能發(fā)生氮化物膜沒(méi)有被完全去除的工序不良(參照?qǐng)D2)。此外,想要將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力弱的添加劑,由此雖然氮化物膜被完全去除,但是可能發(fā)生對(duì)氧化物膜也造成損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)。以往,為了在包含氧化物膜和氮化物膜的多層膜中*將氮化物膜選擇性完全去除而選擇具有適當(dāng)水平的防蝕能力的添加劑時(shí),按照添加劑的種類和濃度通過(guò)實(shí)驗(yàn)進(jìn)行確認(rèn)。沒(méi)有這樣的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)就選擇添加劑實(shí)際上是不可能的。
將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過(guò)濾網(wǎng)7過(guò)濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過(guò)控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用,然后打開(kāi)二號(hào)電磁閥23,將蝕刻液通過(guò)二號(hào)排液管22導(dǎo)入到分隔板2左側(cè),傾斜板24使得蝕刻液向左流動(dòng)以便排出到裝置主體1外,接著啟動(dòng)抽氣泵19,將電解池4中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管20并導(dǎo)入到集氣箱21中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,緊接著打開(kāi)活動(dòng)板25將金屬銅取出,之后啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)三號(hào)電磁閥29,將由進(jìn)水管27導(dǎo)入到蓄水箱26中的清水。如何挑選一款適合自己公司的蝕刻液?
引線框架的腐蝕是如何生產(chǎn)的呢?引線框架的材料主要是電子銅帶,常見(jiàn)在引線框架中通過(guò)亮鎳、錫和錫鉛鍍層下進(jìn)行鍍鎳完成保護(hù)金屬材料的目的,在材質(zhì)過(guò)程中42合金引線相對(duì)來(lái)說(shuō)容易發(fā)生應(yīng)力-腐蝕引發(fā)的裂紋。為了保障引線框架的優(yōu)異的導(dǎo)電性和散熱性,處理方式通過(guò)電鍍銀、片式電鍍線,將引線和基島表面作特殊處理,這樣能夠保障焊線和引線框架的良好焊接性能。引線框架電鍍銀蝕刻工藝流程主要分:上料-電解除油-活化-預(yù)鍍銅-預(yù)鍍銀-局部鍍銀-退銀-防銀膠擴(kuò)散-防銅變色-烘干-收料。通過(guò)該蝕刻工藝流程能夠保障引線框架蝕刻過(guò)程中電鍍層的厚度、光亮度、粗糙度、潔凈度等。因此,蝕刻引線框架對(duì)工藝和工廠的管理需要嚴(yán)格控制。 什么制程中需要使用蝕刻液。無(wú)錫銅鈦蝕刻液蝕刻液訂做價(jià)格
維信諾用的哪家的蝕刻液?南京BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司
在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下,能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2~45重量%來(lái)包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對(duì)上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說(shuō)明的、對(duì)于添加劑選擇等的一切內(nèi)容均可以同樣地應(yīng)用于本發(fā)明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯(lián)劑以及包含該硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻方法。南京BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司