電鍍設備是通過電解反應在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護性或功能性涂層。
其系統(tǒng)包括:
電解電源:提供0-24V直流電,電流可達數(shù)千安培,適配不同鍍種需求;
電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設計,容積0.5-10m3;
電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃,陰極掛具定制設計,確保接觸電阻<0.1Ω;
控制系統(tǒng):精細溫控(±1℃)、pH監(jiān)測(±0.1)及鍍層厚度管理。
設備分類:
掛鍍線:精密件加工,厚度均勻性±5%;
滾鍍系統(tǒng):小件批量處理,效率3-8㎡/h;
連續(xù)電鍍線:帶材/線材高速生產(chǎn),產(chǎn)能達30㎡/h;
選擇性電鍍:數(shù)控噴射,局部鍍層精度±3%。 貴金屬電鍍設備配備凈化循環(huán)系統(tǒng),嚴格把控鍍金液雜質(zhì)含量,滿足芯片鍵合線的超高純度要求。手動電鍍設備生產(chǎn)過程
1.前處理系統(tǒng)
對工件表面進行清洗、除油、除銹、磷化(或鈍化)等處理,確保表面潔凈并增強涂層附著力。
設備包括:預清洗槽、脫脂槽、酸洗槽、磷化槽、水洗槽、烘干爐等。
2.電泳槽系統(tǒng)
電泳主槽:容納電泳液,工件在此進行涂裝,槽體需恒溫控制(通常 20~30℃)。
循環(huán)過濾系統(tǒng):保持電泳液均勻,過濾雜質(zhì),防止顆粒污染涂層。
電源系統(tǒng):提供直流電源,控制電壓、電流參數(shù),調(diào)節(jié)涂層厚度和質(zhì)量。
超濾(UF)系統(tǒng):分離電泳液中的水分和雜質(zhì),回收涂料并凈化廢水。
3.后處理系統(tǒng)
清洗工序:電泳后水洗(超濾水洗、純水洗)去除工件表面殘留的電泳液,避免雜質(zhì)影響涂層質(zhì)量。
烘干固化線:通過烘箱或隧道爐對濕膜進行高溫固化(通常 160~200℃),形成堅硬的漆膜。
4.自動化控制系統(tǒng)
集成 PLC 或工業(yè)計算機,控制各工序的時間、溫度、電壓、液位等參數(shù),實現(xiàn)全流程自動化。
配備輸送系統(tǒng)(如懸掛鏈、滾床、機械手),實現(xiàn)工件的連續(xù)傳輸。 自動化電鍍設備周邊產(chǎn)業(yè)在線監(jiān)測設備搭載 AI 算法,實時分析鍍層缺陷(如麻點、漏鍍),自動調(diào)整電流參數(shù)提升良品率。
按電鍍工藝藥劑添加
分化學鎳自動加藥設備:通過先進傳感器和控制系統(tǒng),實時監(jiān)測化學鎳溶液濃度、pH值、溫度等參數(shù),依預設工藝要求自動調(diào)整添加劑加入量,保障溶液穩(wěn)定性,提高電鍍產(chǎn)品一致性與質(zhì)量。還具備高效節(jié)能特點,減少化學品浪費與環(huán)境污染,同時減輕工人勞動強度。
電鍍藥水全自動添加系統(tǒng):如秒準MAZ-XR300A18,基于莫塞萊定律和比爾-朗伯定律,利用軟X射線和可見光譜對電鍍液中金屬離子(如Ni2?、Sn2?等)和非金屬組分(如磷酸、氫氧化鈉等添加劑)進行定性、定量分析。具備自清洗功能,支持多通道采樣,可全組分在線分析,適用于高溫強腐蝕性環(huán)境,安全性高。
pH自動加藥機:用于維持電鍍液pH值穩(wěn)定。電鍍過程中,pH值變化會影響鍍層質(zhì)量,該設備通過pH傳感器實時監(jiān)測,當pH值偏離設定范圍,自動控制加酸或加堿泵添加相應藥劑,使pH值保持在合適區(qū)間。
光亮劑自動加藥機:光亮劑能提升電鍍層光亮程度和表面質(zhì)量。此設備依據(jù)電鍍液中光亮劑濃度變化,自動添加光亮劑,保證鍍層外觀質(zhì)量穩(wěn)定,避免因光亮劑不足或過量導致鍍層發(fā)暗、出現(xiàn)條紋等問題。
是專為電感類電子元件(如線圈、磁芯、電感器等)設計的電鍍加工設備,其特點是采用雙滾筒結(jié)構(gòu),結(jié)合滾鍍工藝,以實現(xiàn)小型電感元件的高效、均勻鍍層處理。
雙滾筒設計:兩個滾筒可同時或交替運行,一桶裝卸時另一桶持續(xù)工作,減少停機時間,提升產(chǎn)能。
滾筒優(yōu)化:采用絕緣耐腐蝕材質(zhì)(如PP),開孔設計促進鍍液流通,防纏繞結(jié)構(gòu)適配電感元件的細小特性。
滾鍍工藝:元件在滾筒內(nèi)翻滾,通過電流作用均勻沉積鍍層(如鎳、錫、銀),雙桶可調(diào)控轉(zhuǎn)速、電流等參數(shù)。
高效連續(xù)生產(chǎn):雙桶交替作業(yè)支持大規(guī)模電鍍,尤其適合貼片電感(SMD)、磁環(huán)等小件批量處理。
鍍層均勻穩(wěn)定:滾筒旋轉(zhuǎn)避免元件堆積死角,結(jié)合陰極導電設計,確保復雜形狀表面鍍覆一致性。
低損傷高適配:柔和翻滾減少碰撞損耗,可適配防腐、可焊、導電等多種鍍層工藝需求。
典型場景:貼片電感、繞線電感、磁芯等鍍鎳(抗氧化)、鍍錫(焊接)或鍍銀(高導)處理。
關(guān)鍵注意:需匹配元件尺寸選擇滾筒孔徑,定期維護鍍液成分及導電觸點,避免漏料或鍍層缺陷。 電鍍槽體的防腐內(nèi)襯采用聚四氟乙烯(PTFE),耐受強酸堿與高溫,延長設備使用壽命 30% 以上。
廢水廢氣處理設備是否集成循環(huán)過濾系統(tǒng)(如RO反滲透膜)?能否達到《電鍍污染物排放標準》(GB21900-2008)。酸霧收集裝置(如側(cè)吸風+噴淋塔)是否完善,避免車間環(huán)境污染。安全設計防漏電保護(雙重絕緣+接地報警)、緊急停機按鈕、防腐蝕外殼等。符合國家《機械電氣安全標準》(GB5226.1)。
初期投入
設備價格:小型手動線約5-15萬元,全自動線可達百萬元以上。
配套成本:廢水處理設施、車間改造、環(huán)評審批費用。
運營成本
能耗(電費占成本30%-50%)、耗材(陽極材料、濾芯)、人工費用。
維護成本:易損件(加熱管、泵)更換頻率及價格。
回報周期
高附加值產(chǎn)品(如鍍金飾品)可能3-6個月回本,普通鍍鋅件需1-2年。 貴金屬電鍍設備配備高精度電源與凈化系統(tǒng),嚴格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。浙江貴金屬電鍍設備
設備維護系統(tǒng)集成故障診斷模塊,通過傳感器數(shù)據(jù)預判過濾機堵塞、加熱管老化等問題,減少停機時間。手動電鍍設備生產(chǎn)過程
一、設備概述:
適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬;鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。
降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長速度,促使晶核細化。
改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。
改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,掛鍍生產(chǎn)線設備,減緩形態(tài)復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對于獲得一個給定特性鍍層的厚度可減少到原來1/3~1/2,節(jié)省原材料。
降低鍍層的內(nèi)應力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。
有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。
改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。
改進鍍層的機械物理性能,如提高密度,降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性,而且可以控制鍍層硬度。 手動電鍍設備生產(chǎn)過程