Ce: YAG 閃爍晶體的生長(zhǎng)參數(shù)：根據(jù)Ir坩堝的尺寸以及熱場(chǎng)條件，通過(guò)觀察YAP熔體對(duì)流狀態(tài)，本論文選擇晶體轉(zhuǎn)速為10-20RPM；考慮到Ce離子在YAP晶體中的分凝系數(shù)較大（約為0.5）和晶體的尺寸（Φ55mm），實(shí)驗(yàn)中選用了1-2mm/h的提拉速度。生長(zhǎng)流程：裝爐→抽真空→充氣→升溫化料→烤晶種→下種→縮頸→生長(zhǎng)→提拉→降溫→取出晶體進(jìn)行退火。在裝爐時(shí)，為了保證爐體內(nèi)徑向溫度軸對(duì)稱(chēng)分布，線(xiàn)圈中心、石英管中心、坩堝中心及籽晶中心應(yīng)該保持一致。CeYAP晶體穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)和良好的探測(cè)性能，在核醫(yī)學(xué)，核防護(hù)等方面有著較廣的應(yīng)用前景。廣東進(jìn)口CeYAP晶體性能
紫外輻照對(duì)Ce:YAP晶體自吸收有影響嗎？摻鈰高溫閃爍晶體是無(wú)機(jī)閃爍晶體的一個(gè)重要發(fā)展方向，其中鈰：YAP和鈰3360Yag是較好的晶體。隨著應(yīng)用要求的變化，閃爍晶體的尺寸越來(lái)越大，因此生長(zhǎng)大尺寸的閃爍晶體變得更加重要。同時(shí)，國(guó)內(nèi)生長(zhǎng)的Ce:YAP晶體自吸收現(xiàn)象普遍存在，導(dǎo)致無(wú)法有效提高出光量，其機(jī)理尚不清楚。為了有效提高Ce:YAP晶體的閃爍性能，解決其自吸收問(wèn)題，提高其發(fā)光強(qiáng)度，重點(diǎn)研究了Ce:YAP晶體的自吸收機(jī)制。同時(shí)，為了獲得高發(fā)光效率的大尺寸Ce:YAG晶體，嘗試用溫度梯度法生長(zhǎng)大尺寸Ce:YAG晶體，并探索了晶體的比較好熱處理?xiàng)l件。本文主要討論了大尺寸Ce:YAP晶體的生長(zhǎng)和自吸收以及用溫度梯度法生長(zhǎng)和退火大尺寸Ce:YAG晶體，以提高晶體的實(shí)用性能。廣東進(jìn)口CeYAP晶體性能CeYAP晶體閃爍速度快、光產(chǎn)額高、機(jī)械和化學(xué)性能優(yōu)異。
Ce:YAP晶體在弱還原氣氛中生長(zhǎng)，發(fā)現(xiàn)晶體的自吸收被有效壓制。與在惰性氣氛中生長(zhǎng)的樣品相比，厚度為2mm的樣品的透射邊緣移動(dòng)了近30納米，發(fā)光強(qiáng)度提高了50%以上。同時(shí)，研究了還原氣氛生長(zhǎng)對(duì)Ce: YAP晶體其他閃爍性能的影響。比較了不同價(jià)離子摻雜對(duì)Ce: YAP晶體閃爍性能的影響。結(jié)果表明，二價(jià)離子摻雜對(duì)Ce: YAP晶體的閃爍性能有很強(qiáng)的負(fù)面影響，而四價(jià)離子摻雜有助于提高Ce:Yap晶體的部分閃爍性能。還研究了錳離子摻雜對(duì)Ce: YAP晶體性能的影響。發(fā)現(xiàn)YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過(guò)程，Ce和Mn: YAP的衰變時(shí)間明顯短于Ce、Mn : YAP，其快、慢成分分別為10.8ns和34.6 ns。 專(zhuān)業(yè)加工CeYAP晶體訂做價(jià)格不同退火條件Ce:YAP晶體自吸收比較。
這里來(lái)為大家介紹下，不同厚度Ce:YAP晶體自吸收比較。ce : YaP晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)調(diào)整，在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中，除了控制部分，坩堝形狀和位置、保溫罩結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)速、拉速、氣氛等因素都會(huì)對(duì)晶體質(zhì)量產(chǎn)生影響。為了生長(zhǎng)大尺寸晶體，有效改變晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)和熔體對(duì)流狀態(tài)，我們采用大直徑銥坩堝進(jìn)行生長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了相應(yīng)的保溫罩系統(tǒng)。同時(shí)，在生長(zhǎng)過(guò)程基本穩(wěn)定后，我們通過(guò)適當(dāng)改變氧化鋯體系的結(jié)構(gòu)和調(diào)整晶體生長(zhǎng)的溫場(chǎng)來(lái)尋求比較好的生長(zhǎng)條件。CeYAP晶體生長(zhǎng)流程：裝爐、抽真空、充氣、升溫化料、烤晶種、下種、縮頸、生長(zhǎng)、提拉、降溫、退火。
同濃度Ce: YAP的熒光光譜。在可見(jiàn)光(300納米)激發(fā)下，不同濃度Ce: YAP的熒光強(qiáng)度隨著濃度的增加而增加，直到0.5at%。當(dāng)濃度為1.0at%時(shí)，濃度淬滅，發(fā)光強(qiáng)度開(kāi)始降低。相同厚度(5mm)的Ce: YAP晶體在X射線(xiàn)激發(fā)下的發(fā)光強(qiáng)度隨著濃度的增加先增大后減小，峰值位置也有紅移，其中0.3at%處的發(fā)光強(qiáng)度比較高。自吸收對(duì)光致發(fā)光幾乎沒(méi)有影響，因?yàn)榧ぐl(fā)和發(fā)射過(guò)程都發(fā)生在樣品表面。在高能射線(xiàn)的激發(fā)下，經(jīng)過(guò)多次電離過(guò)程，晶體內(nèi)部產(chǎn)生大量的電子-空穴對(duì)，電子-空穴對(duì)將能量傳遞到發(fā)光中心，發(fā)光過(guò)程基本發(fā)生在晶體內(nèi)部。分析CeYAP晶體的自吸收機(jī)制，發(fā)現(xiàn)Ce4離子有一個(gè)電荷轉(zhuǎn)移吸收峰，其半峰全寬接近100納米。安徽雙摻CeYAP晶體銷(xiāo)售商
發(fā)現(xiàn)YAP基質(zhì)中Ce，Mn之間存在明顯的能量轉(zhuǎn)移過(guò)程。廣東進(jìn)口CeYAP晶體性能
剛出爐的Ce:YAP單晶由于內(nèi)部熱應(yīng)力較大，在加工過(guò)程中容易開(kāi)裂，提拉法生長(zhǎng)的晶體明顯，同時(shí)由于鈰離子的價(jià)態(tài)(Ce2、Ce3、Ce4)不同，高溫閃爍晶體中只有三價(jià)鈰離子(Ce3)作為發(fā)光中心，因此不同的退火工藝條件對(duì)高溫閃爍晶體的閃爍性能有重要影響。對(duì)于空氣退火，退火溫度為1000 ~ 1600，恒溫時(shí)間為20 ~ 30小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率為50 ~ 100，1200時(shí)升溫/降溫速率為30 ~ 50。使用的設(shè)備是硅碳或硅鉬棒馬弗爐流動(dòng)氫退火，退火溫度1200-1600，恒溫時(shí)間20-36小時(shí)，1200以下升溫/降溫速率50-100/小時(shí)，1200升溫/降溫速率30-50/小時(shí)。廣東進(jìn)口CeYAP晶體性能
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