河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-24

Tl h Tl2,Tl2 e h但是空穴復(fù)合發(fā)光也是可能的Tl e Tl0,Tl0 h h在無機(jī)晶體中,能量通過激子轉(zhuǎn)移到發(fā)光中心的幾率小于復(fù)合發(fā)光的幾率。一般認(rèn)為,在輻照過程中,低能激子數(shù)小于電子空穴對(duì)數(shù)。為了形成激子,入射電子(光子)的能量應(yīng)該正好等于激子的能量 YAP晶體在透射光中是無色的,在反射光中呈淡棕色。在排除雜質(zhì)的情況下,主要考慮基體和摻雜元素本身。不同氣氛退火引起的自吸收效應(yīng)相反,與溫度呈逐年關(guān)系,說明自吸收與離子價(jià)態(tài)的變化有關(guān),與ce的摻雜濃度成正比。我們認(rèn)為,比較大的自吸收可能是Ce離子本身,即Ce4通過氫退火轉(zhuǎn)化為Ce3,削弱了自吸收,而氧退火增強(qiáng)了自吸收,Ce濃度越大,Ce4離子的數(shù)量相應(yīng)增加。CeYAP等被認(rèn)為是新一代高性能無機(jī)閃爍晶體。河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商

Ce:YAP晶體生長(zhǎng)原料需要哪些?無機(jī)閃爍晶體在將高能射線或粒子轉(zhuǎn)化為低能光子的過程中,會(huì)發(fā)生一系列微觀過程,如一級(jí)和二級(jí)電離和激發(fā)、電子-空穴、光子和激子的遷移、電子與電子、電子與聲子(矩陣)之間的弛豫、電子-空穴對(duì)的俘獲、電子-空穴對(duì)與熒光中心之間的能量轉(zhuǎn)移等。當(dāng)經(jīng)歷電離事件時(shí),閃爍體處于從非平衡狀態(tài)到平衡狀態(tài)的弛豫過程中。大量的熱化電子空穴對(duì)和這些電子產(chǎn)生的相當(dāng)一部分低能激子0終會(huì)轉(zhuǎn)化為發(fā)射光子,從高能輻射到紫外或可見光光子的過程就是閃爍過程。河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商1680℃高溫氫氣退火后,CeYAP晶體中同時(shí)包含YAP相和YAG相。

過渡金屬離子摻雜對(duì)YAP晶體透射邊緣的影響,由于過渡金屬離子D層具有更多的電子能級(jí),容易受到晶場(chǎng)的影響,因此YAP晶體中可能存在更多的吸收帶。為了了解過渡金屬摻雜對(duì)Ce: YAP自吸收的可能影響,我們比較了摻雜過渡金屬如銅(0.5%)、鐵(0.5%)和錳(0.5%)的純YAP晶體的透射光譜。從圖4-11可以看出,Mn摻雜的yap在480nm處有明顯的吸收峰,而Cu摻雜的YAP在370nm左右有吸收峰,F(xiàn)e摻雜的YAP將在下一節(jié)討論。我們生長(zhǎng)的Ce: YAP在350nm ~ 500nm范圍內(nèi)沒有額外的吸收峰,少量過渡金屬離子的存在只會(huì)對(duì)吸收產(chǎn)生線性疊加效應(yīng),低濃度吸收不足以引起Ce: YAP晶體的自吸收,因此過渡金屬離子污染不太可能引起Ce3360Yap吸收帶紅移。同時(shí),GDMS分析結(jié)果還表明,我們生長(zhǎng)的Ce: YAP晶體中過渡金屬的含量小于10ppm,對(duì)晶體發(fā)光的影響可以忽略不計(jì)。

不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜是Fe: YAP樣品在不同溫度退火后的吸收光譜和微分吸收光譜。Fe: YAP晶體的吸收光譜在203納米、246納米、270納米和325納米附近有吸收峰。差示吸收光譜顯示,氫退火后264 ~ 270納米波長(zhǎng)范圍內(nèi)的吸收明顯減弱,氧退火后321納米出現(xiàn)差示吸收峰??梢哉J(rèn)為246 nm和270 nm處的吸收與Fe3有關(guān),即Fe3和Fe2之間存在躍遷[102]。除了321nm處的吸收,YAP: Fe的幾個(gè)吸收峰與純YAP晶體的吸收峰有一定距離,這不能解釋純YAP(Ce: YAP)中的其他吸收峰與鐵有關(guān)。 由于晶體放肩階段屬?gòu)?qiáng)迫限制晶體直徑增大的過程,晶體尺寸的變化率比較大。

作為未摻雜晶體的ceF3具有本征發(fā)光,而另一方面,以Ce為基質(zhì)的晶體和以Ce為摻雜劑的晶體表現(xiàn)出與Ce3相同的5d4f躍遷發(fā)光。表1-2無機(jī)閃爍體中主要電子躍遷和發(fā)光中心的分類,對(duì)于閃爍體,一般要求其發(fā)光中心具有較高的輻射躍遷概率。表1-2總結(jié)了無機(jī)閃爍晶體中幾種主要類型的發(fā)光中心。具有S20外層電子構(gòu)型的類汞離子可以產(chǎn)生很高的光輸出,但很難獲得很短的衰變時(shí)間。Eu2也存在類似的情況。Ce3的5d4f躍遷是允許的躍遷,在各種襯底中既有高光輸出又有快衰減時(shí)間。CeYAP作為閃爍晶體,用水平區(qū)熔法生長(zhǎng)了CeYAP閃爍晶體。河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商

Ce: YAP作為一種性能優(yōu)越的高溫閃爍晶體,在高能核物理和核醫(yī)學(xué)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商

紫外輻照對(duì)Ce:YAP晶體自吸收有影響嗎?摻鈰高溫閃爍晶體是無機(jī)閃爍晶體的一個(gè)重要發(fā)展方向,其中鈰:YAP和鈰3360Yag是較好的晶體。隨著應(yīng)用要求的變化,閃爍晶體的尺寸越來越大,因此生長(zhǎng)大尺寸的閃爍晶體變得更加重要。同時(shí),國(guó)內(nèi)生長(zhǎng)的Ce:YAP晶體自吸收現(xiàn)象普遍存在,導(dǎo)致無法有效提高出光量,其機(jī)理尚不清楚。為了有效提高Ce:YAP晶體的閃爍性能,解決其自吸收問題,提高其發(fā)光強(qiáng)度,重點(diǎn)研究了Ce:YAP晶體的自吸收機(jī)制。同時(shí),為了獲得高發(fā)光效率的大尺寸Ce:YAG晶體,嘗試用溫度梯度法生長(zhǎng)大尺寸Ce:YAG晶體,并探索了晶體的比較好熱處理?xiàng)l件。本文主要討論了大尺寸Ce:YAP晶體的生長(zhǎng)和自吸收以及用溫度梯度法生長(zhǎng)和退火大尺寸Ce:YAG晶體,以提高晶體的實(shí)用性能。河南進(jìn)口CeYAP晶體銷售商

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