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pco.edge 4.2 bi UV用于薄膜分析

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-12-25

(文獻(xiàn)部分內(nèi)容摘抄)


橢圓偏振光譜法是一種無(wú)損的光學(xué)表面表征技術(shù)。它通過(guò)以傾斜入射角度照射偏振電磁輻射來(lái)探測(cè)樣品,光子能量通常在電磁波譜的紫外部分到紅外部分之間。橢圓偏振光譜一般檢測(cè)探測(cè)光束的偏振橢圓的任何變化--因此得名“橢圓偏振光譜”,這種變化可能發(fā)生在探測(cè)光束從樣品表面反射時(shí)。這種變化幾乎是由覆蓋樣品表面的任何薄膜引入的,因此,橢圓偏振光譜的主要應(yīng)用之一是確定薄膜的厚度,范圍通常在0.1nm到20 um之間。


特別是成像橢偏儀將傳統(tǒng)的橢偏儀與光學(xué)顯微鏡相結(jié)合,從而使橢偏儀研究的橫向分辨率降至1um。因此,它非常適合于研究結(jié)構(gòu)化或非常小的樣品,如二維材料的MEMs、FETs、生物芯片或薄片。


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近年來(lái),人們對(duì)使用寬帶隙半導(dǎo)體如碳化硅(Sic)、氮化(GaN)等的高功率電子學(xué)越來(lái)越感興趣。為了表征這些材料,重要的是要用光子能量高于材料帶隙的電磁輻射探測(cè)樣品。由于較短波長(zhǎng)具有較高的光子能量,因此比較好在盡可能短的波長(zhǎng)下進(jìn)行橢偏研究。


作為成像橢偏儀的一些的生產(chǎn)商已經(jīng)使用CCD和CMOS相機(jī)技術(shù)超過(guò)20年。關(guān)于紫外線范圍,到目前為止,他們的產(chǎn)品由于缺乏適當(dāng)?shù)?、科學(xué)級(jí)的、高靈敏度、低噪聲的探測(cè)器而受到限制,因此只能使用下述方法進(jìn)行250 nm以下的研究精密的背照式小型CMOS相機(jī)。


隨著pco.edge 4.2 bi UV的出現(xiàn),edge 4.2紫外線相機(jī)完全改變了這種情況。作為一種低光照應(yīng)用,成像橢偏儀尤其受益于sCMOS技術(shù)的超高靈敏度和極低的噪聲水平。結(jié)合事實(shí)上,pco.edge 4.2 bi UV紫外線額外的特點(diǎn)一個(gè)非常好的響應(yīng)在紫外光譜的光,這次,有可能建立一個(gè)成像橢球儀的工作在190 nm至1000 nm的波長(zhǎng)范圍。


成像橢偏儀 EP4是一個(gè)模塊化設(shè)備,可配備多種光源、探測(cè)器和樣品處理系統(tǒng)。可以對(duì)小樣本以及直徑達(dá)300毫米的硅片進(jìn)行研究。


德國(guó)/ Excelitas PCO 公司的pco.edge 4.2 bi UV相機(jī),具備超高靈敏度、極低的噪聲水平、光譜響應(yīng)敏捷的優(yōu)點(diǎn),將紫外實(shí)驗(yàn)過(guò)程完美記錄,為實(shí)驗(yàn)提供強(qiáng)而有力的圖像數(shù)據(jù)支持。


廣州市元奧儀器有限公司作為德國(guó)Excelitas PCO 公司科學(xué)相機(jī)在中國(guó)的代理商之一,為客戶提供各種成像系統(tǒng)解決方案,如對(duì)相關(guān)產(chǎn)品感到興趣,歡迎隨時(shí)聯(lián)系交流!


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