在過去的幾年中,全球各地的研究機構(gòu)和大學已開始集中研究微觀和納米尺度現(xiàn)象、器件和系統(tǒng)。雖然這一領域的研究產(chǎn)生了微納制造方面的先進知識,但比較顯然,這些知識的產(chǎn)業(yè)應用將是增強這些技術未來增長的關鍵。雖然在這些領域的大規(guī)模生產(chǎn)方面已經(jīng)取得了進步,但微納制造技術的主要生產(chǎn)環(huán)境仍然是停留在實驗室中,在企業(yè)的大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中難得一見。這就導致企業(yè)在是否采用這些技術方面猶豫不決,擔心它們可能引入未知因素,影響制造鏈的性能與質(zhì)量。就這一點而言,投資于基礎設施的發(fā)展,如更高的模塊化、靈活性和可擴展性可能會有助于生產(chǎn)成本的減少,對于新生產(chǎn)平臺成功推廣至關重要。這將有助于吸引產(chǎn)業(yè)界的積極參與,與率先的研究實驗室一起推動微納產(chǎn)品的不斷升級換代。在硅材料刻蝕當中,硅針的刻蝕需要用到各向同性刻蝕,硅柱的刻蝕需要用到各項異性刻蝕。河南光電器件微納加工外協(xié)
“納米制造”路線圖強調(diào)了未來納米表面制造的發(fā)展。問卷調(diào)查探尋了納米表面制備所面臨的機遇。調(diào)查中提出的問題旨在獲取納米表面特征的相關信息:這種納米表面結(jié)構(gòu)可以是形貌化、薄膜化的改良表面區(qū)域,也可以是具有相位調(diào)制或一定晶粒尺寸的涂層。這類結(jié)構(gòu)構(gòu)建于眾多固體材料表面,如金屬、陶瓷、玻璃、半導體和聚合物等??偨Y(jié)了調(diào)查結(jié)果與發(fā)現(xiàn),并闡明了未來納米表面制造的前景。納米表面可產(chǎn)生自材料的消解、沉積、改性或形成過程。這導致制備出的納米表面帶有納米尺度所特有的新的化學、物理和生物特性(比如催化作用、磁性質(zhì)、電性質(zhì)、光學性質(zhì)或抗細菌性)。在納米科學許多已有的和新興的子領域中,表面工程已經(jīng)實現(xiàn)了從基礎科學向現(xiàn)實應用的轉(zhuǎn)變,比如材料科學、光學、微電子學、動力工程學、傳感系統(tǒng)和生物工程學等。在改進和簡化生產(chǎn)過程方面,還需要做許多工作才能降低***納米表面的生產(chǎn)成本。可重復性、尺寸形狀的控制、均勻性以及結(jié)構(gòu)的魯棒性等,都是工業(yè)生產(chǎn)過程中必須要考慮的關鍵參數(shù)。佛山功率器件微納加工平臺微納結(jié)構(gòu)器件是系統(tǒng)重要的組成部分,其制造的質(zhì)量、效率和成本直接影響著行業(yè)的發(fā)展。
目前微納制造領域較常用的一種微細加工技術是LIGA。這項技術由于可加工尺寸小、精度高,適合加工半導體材料,因而在半導體產(chǎn)業(yè)中得到普遍的應用,其較基礎的中心技術是光刻,即曝光和刻蝕工藝。隨著LIGA技術的發(fā)展,人們開發(fā)出了比較多種不同的曝光、刻蝕工藝,以滿足不同精度尺寸、生產(chǎn)效率等的需求。LIGA技術經(jīng)過多年的發(fā)展,工藝已經(jīng)相當成熟,但是這項技術的基本原理決定了它必然會存在的一些缺陷,比如工藝過程復雜、制備環(huán)境要求高(比如需要凈化間等)、設備投入大、生產(chǎn)成本高等。
微納加工技術的特點:(1)微型化:MEMS體積小(芯片的特征尺寸為納米/微米級)、微納結(jié)構(gòu)器件研發(fā)質(zhì)量輕、功耗低、慣性小、諧振頻率高、響應時間短。例如,一個壓力成像器的微系統(tǒng),含有1024個微型壓力傳感器,整個膜片尺寸*為10mm×10mm,每個壓力芯片尺寸為50μm×50μm。(2)多樣化:MEMS包含有數(shù)字接口、自檢、自調(diào)整和總線兼容等功能,具備在網(wǎng)絡中應用的基本條件,具有標準的輸出,便于與系統(tǒng)集成在一起,而且能按照需求,靈活地設計制造更多化的MEMS。微納加工設備主要有:光刻、刻蝕、成膜、離子注入、晶圓鍵合等。
掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金屬鉻薄膜,通過類似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機直接制備,其制作過程就是典型的光刻工藝過程,包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。由于模板像素超多,用掃描式光刻機制作掩模板的速度相當慢,造價十分昂貴。曝光光刻是圖形形成的中心工藝過程,可分為正膠工藝和負膠工藝,采用相同掩模板制作時,二者可獲得互補的圖形結(jié)構(gòu)。另外,按照不同工作距離可分為接近式曝光、近貼式曝光(接觸曝光)和投射式光學曝光;按照曝光系統(tǒng)的工作光源又可分為紫外線曝光、X射線與及紫外線曝光、電子束與離子束曝光。此外,微納印刷技術(,如納米壓印技術,在納米結(jié)構(gòu)及器件制作中也得到了良好的發(fā)展,其高效的圖形復制特點使之在工業(yè)界極具吸引力。卷對卷滾軸壓印技術已經(jīng)被產(chǎn)線普遍采用。高精度的微細結(jié)構(gòu)通過控制聚焦電子束(光束)移動書寫圖案進行曝光。河南光電器件微納加工外協(xié)
微納加工技術能突顯一個國家工業(yè)發(fā)展水平。河南光電器件微納加工外協(xié)
21世紀,人們?nèi)詴粩嘧非髼l件更好且可負擔的醫(yī)療保健服務、更高的生活品質(zhì)和質(zhì)量更好的日用消費品,并竭力應對由能源成本上漲和資源枯竭所帶來的風險等“巨大挑戰(zhàn)”。它們也是采用創(chuàng)新體系的商品擴大市場的推動力。微納制造技術過去和現(xiàn)在一直都被認為在解決上述挑戰(zhàn)方面大有用武之地。環(huán)境——采用更少的能源與原材料。從短期來看,微納制造技術不會對環(huán)境和能源成本產(chǎn)生重大的影響。受到當前加工技術的限制,這些技術在早期的發(fā)展階段往往會有較高的能源成本。與此同時,微納制造一旦成熟,將會消耗更少的能源與資源,就此而言,微納制造無疑是一項令人振奮的技術。例如,與去除邊角料獲得較終產(chǎn)品不同的是,微納制造采用的積層法將會使得廢料更少。隨著創(chuàng)新型納米制造技術的發(fā)展,現(xiàn)在對化石燃料的依存度已經(jīng)開始下降了,二氧化碳的排放也隨之降低,大氣中氮氧化物和硫氧化物的濃度也減少了。河南光電器件微納加工外協(xié)