原料準(zhǔn)備
? 主要成分:樹(shù)脂(成膜劑,如酚醛樹(shù)脂、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加劑(調(diào)節(jié)粘度、感光度、穩(wěn)定性等,如表面活性劑、穩(wěn)定劑)。
? 原料提純:對(duì)樹(shù)脂、感光劑等進(jìn)行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質(zhì)影響光刻精度。
配料與混合
? 按配方比例精確稱(chēng)量各組分,在潔凈環(huán)境,如萬(wàn)中通過(guò)攪拌機(jī)均勻混合,形成膠狀溶液。
? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,避免氣泡產(chǎn)生或成分分解。
過(guò)濾與純化
? 使用納米級(jí)濾膜(孔徑0.05-0.2μm)過(guò)濾,去除顆粒雜質(zhì)(如金屬離子、灰塵),確保膠液潔凈度,避免光刻時(shí)產(chǎn)生缺陷。
性能檢測(cè)
? 物理指標(biāo):粘度、固含量、表面張力、分子量分布等,影響涂布均勻性。
? 化學(xué)指標(biāo):感光度、分辨率、對(duì)比度、耐蝕刻性,通過(guò)曝光實(shí)驗(yàn)和顯影測(cè)試驗(yàn)證。
? 可靠性:存儲(chǔ)穩(wěn)定性(常溫/低溫保存下的性能變化)、耐溫性(烘烤過(guò)程中的抗降解能力)。
包裝與儲(chǔ)存
? 在惰性氣體(如氮?dú)猓┉h(huán)境下分裝至避光容器(如棕色玻璃瓶或鋁罐),防止感光劑氧化或光分解。
? 儲(chǔ)存條件:低溫(5-10℃)、避光、干燥,部分產(chǎn)品需零下環(huán)境(如EUV光刻膠)。
松山湖半導(dǎo)體材料廠(chǎng)家吉田,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!湖南LCD光刻膠生產(chǎn)廠(chǎng)家
光刻膠系列:
厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年;
水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L;SU - 3 負(fù)性光刻膠,分辨率優(yōu)異,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),重量 100g;
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好;
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,長(zhǎng)期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,重量 100g;
LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力,重量 100g;
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g;
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,重量 1L。
山東阻焊光刻膠價(jià)格水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)+易操作性!
作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線(xiàn)寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達(dá) 98% 以上,已通過(guò)中芯國(guó)際等晶圓廠(chǎng)驗(yàn)證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動(dòng)化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過(guò) ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷(xiāo)全球并與跨國(guó)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,加速?lài)?guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。
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正性光刻膠(如 YK-300)
應(yīng)用場(chǎng)景:用于芯片的精細(xì)圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。
特點(diǎn):高分辨率(可達(dá)亞微米級(jí)),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。
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負(fù)性光刻膠(如 JT-1000)
應(yīng)用場(chǎng)景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。
特點(diǎn):抗蝕刻能力強(qiáng),適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
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納米壓印光刻膠(JT-2000)
應(yīng)用場(chǎng)景:第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)芯片、量子點(diǎn)器件及微流控芯片的制造。特點(diǎn):耐高溫(250℃)、耐酸堿,支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,降低芯片的制造成本。
吉田技術(shù)自主化與技術(shù)領(lǐng)域突破!
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。
LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,滿(mǎn)足半導(dǎo)體器件對(duì)光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蝕的特性,適用于在有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。
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客戶(hù)需求導(dǎo)向
支持特殊工藝需求定制,例如為客戶(hù)開(kāi)發(fā)光刻膠配方,提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持,尤其在中小批量訂單中靈活性?xún)?yōu)勢(shì)。
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快速交付與售后支持
作為國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商,吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源,交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%,并提供 7×24 小時(shí)技術(shù)響應(yīng),降低客戶(hù)供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。
性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì)
國(guó)產(chǎn)光刻膠價(jià)格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%,吉田半導(dǎo)體通過(guò)規(guī)?;a(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本,同時(shí)保持性能對(duì)標(biāo)國(guó)際品牌,適合對(duì)成本敏感的中低端市場(chǎng)及國(guó)產(chǎn)替代需求。
政策與市場(chǎng)機(jī)遇
受益于國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢(shì),吉田半導(dǎo)體作為 “專(zhuān)精特新” 企業(yè),獲得研發(fā)補(bǔ)貼及產(chǎn)業(yè)基金支持,未來(lái)在國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程中具備先發(fā)優(yōu)勢(shì)。
湖南LCD光刻膠生產(chǎn)廠(chǎng)家