珠海厚膜光刻膠生產(chǎn)廠家

來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-05-16

生產(chǎn)設(shè)備與工藝：從設(shè)計(jì)到制造的“木桶效應(yīng)”

 前端設(shè)備的進(jìn)口依賴
光刻膠生產(chǎn)所需的超臨界流體萃取設(shè)備、納米砂磨機(jī)等關(guān)鍵裝備被德國耐馳、日本光洋等企業(yè)壟斷。國內(nèi)企業(yè)如拓帕實(shí)業(yè)雖推出砂磨機(jī)產(chǎn)品，但在研磨精度（如納米級(jí)顆粒分散）上仍落后于國際水平。

 工藝集成的系統(tǒng)性短板
光刻膠生產(chǎn)涉及精密混合、過濾、包裝等環(huán)節(jié)，需全流程數(shù)字化控制。國內(nèi)企業(yè)因缺乏MES（制造執(zhí)行系統(tǒng)）等智能管理工具，導(dǎo)致批次一致性波動(dòng)。例如，鼎龍股份潛江工廠的KrF光刻膠產(chǎn)線雖實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化，但工藝參數(shù)波動(dòng)仍較日本同類產(chǎn)線高約10%。

光刻膠新興及擴(kuò)展應(yīng)用。珠海厚膜光刻膠生產(chǎn)廠家

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良好的對(duì)比度和高曝光靈敏度，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對(duì)光刻精度要求高的領(lǐng)域，如半導(dǎo)體器件制造。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。


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 半導(dǎo)體集成電路

? 應(yīng)用場(chǎng)景：

? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實(shí)現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu)；

? 封裝工藝：負(fù)性膠用于凸點(diǎn)（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐電鍍?nèi)芤焊g。

? 關(guān)鍵要求：高分辨率、低缺陷率、耐極端工藝（如150℃以上高溫、等離子體轟擊）。

 印刷電路板（PCB）

? 應(yīng)用場(chǎng)景：

? 線路成像：負(fù)性膠（如環(huán)化橡膠膠）用于雙面板/多層板外層線路，線寬≥50μm，耐堿性蝕刻液（如氯化銅）；

? 阻焊層：厚負(fù)性膠（50-100μm）覆蓋非焊盤區(qū)域，耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕；

? 撓性PCB（FPC）：正性膠用于精細(xì)線路（線寬≤20μm），需耐彎曲應(yīng)力。

? 優(yōu)勢(shì)：工藝簡(jiǎn)單、成本低，適合大面積基板（如1.2m×1.0m的PCB基板）。

 平板顯示

? 應(yīng)用場(chǎng)景：

? 彩色濾光片：正性膠制作黑矩陣（BM）和RGB色阻間隔層，耐UV固化和濕法蝕刻（如HF溶液）；

? OLED像素定義：負(fù)性膠形成像素開口（孔徑5-50μm），耐有機(jī)溶劑（如OLED蒸鍍前的清洗液）；

? 觸控面板：正性膠制作透明電極（如ITO線路），線寬≤10μm，需透光率＞90%。

? 關(guān)鍵參數(shù)：高透光性、低收縮率（避免圖案變形）。

LCD 正性光刻膠（YK-200）應(yīng)用場(chǎng)景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極、源漏極）、彩色濾光片制造。特點(diǎn)：高感光度與均勻涂布性，確保顯示面板的高對(duì)比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠（JT-3001）應(yīng)用場(chǎng)景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)，以及 OLED 面板的封裝工藝。特點(diǎn)：膜厚可控（可達(dá)數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。
PCB 光刻膠（如 SU-3 負(fù)性光刻膠）應(yīng)用場(chǎng)景：高多層 PCB、HDI（高密度互連）板的線路成像，以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點(diǎn)：抗電鍍性能優(yōu)異，支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距，適應(yīng) 5G 通信、服務(wù)器等 PCB 需求。 半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑。

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應(yīng)用場(chǎng)景

 半導(dǎo)體集成電路（IC）制造：

? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細(xì)圖案化（如10nm節(jié)點(diǎn)線寬只有100nm）。

? 存儲(chǔ)芯片（DRAM/NAND）：3D堆疊結(jié)構(gòu)中，正性膠用于層間接觸孔（Contact）和柵極（Gate）的高深寬比圖形（深寬比＞10:1）。

 平板顯示（LCD/OLED）：

? 彩色濾光片（CF）：制作黑矩陣（BM）和彩色層（R/G/B），要求高透光率和邊緣銳利度（線寬5-10μm）。

? OLED電極：在柔性基板上形成微米級(jí)透明電極，需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形。

 印刷電路板（PCB）：

? 高密度互連（HDI）：用于細(xì)線路（線寬/線距≤50μm），如智能手機(jī)主板，相比負(fù)性膠，正性膠可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路邊緣。

 微納加工與科研：

? MEMS傳感器：制作微米級(jí)懸臂梁、齒輪等結(jié)構(gòu)，需耐干法蝕刻的正性膠（如含硅樹脂膠）。

? 納米光刻：電子束光刻膠（正性為主）用于研發(fā)級(jí)納米圖案（分辨率＜10nm）。
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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3001：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年，適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景，如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對(duì)比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)。重量為 100g，常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造，能滿足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠：耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強(qiáng)度高。重量 100g，適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如一些半導(dǎo)體器件的制造。 珠海厚膜光刻膠生產(chǎn)廠家

標(biāo)簽： 光刻膠 錫片