廣東菲涅爾透鏡的作用

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-18

示例39包括示例33至38中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材和殼材具有大約λ/2的厚度,其中,λ是光源的峰值輸出波長(zhǎng)。示例40包括示例33至39中任一項(xiàng)的主題,其中,殼材包括硅。示例41包括示例33至40中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材具有基部和頂部,并且基部比頂部寬。示例42包括示例33至40中任一項(xiàng)的主題,其中,芯材具有基部和頂部,并且基部比頂部窄。本文采用的術(shù)語(yǔ)和表述被用作描述性術(shù)語(yǔ)而非限制性術(shù)語(yǔ),并且使用這些術(shù)語(yǔ)和表述不意在排除所示出和描述的特征(或其部分)的任意等同,并且應(yīng)認(rèn)識(shí)到在權(quán)利要求范圍內(nèi)的各種修改是可能的。因此,權(quán)利要求用于覆蓋所有這些等同。本文已經(jīng)描述了各種特征、方面、和實(shí)施例。根據(jù)本公開(kāi)將理解的是,這些特征、方面、和實(shí)施例易于相互組合以及做出變形和修改。因此,應(yīng)該認(rèn)為本公開(kāi)涵蓋這些組合、變形、和修改。期望本公開(kāi)的范圍不受限于具體實(shí)施方式,而是由所附權(quán)利要求來(lái)限定。要求本申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)的未來(lái)遞交的申請(qǐng)可以通過(guò)不同方式請(qǐng)求保護(hù)保護(hù)所公開(kāi)的主題,并且一般可以包括這里的各種公開(kāi)或者以其他方式表達(dá)的一個(gè)或多個(gè)元素的任意**。菲涅爾透鏡縮小材料分類。廣東菲涅爾透鏡的作用

將其波陣面形成為期望的形式。當(dāng)諸如柱體或圓柱之類的中心對(duì)稱亞波長(zhǎng)特征被用作散射器時(shí),sws設(shè)備可以利用非偏振光(像來(lái)自vcsel一樣)進(jìn)行操作。圖7示出了具有襯底302的示例光源,其中,該襯底302具有多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)702。根據(jù)實(shí)施例,多個(gè)sws704被圖案化在一個(gè)或多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)702的上表面上或其附近。提供sws704以改變從給定vcsel結(jié)構(gòu)702的上表面發(fā)射的光的相位??梢詸M跨vcsel結(jié)構(gòu)702的表面不同地改變相位,以使得一些區(qū)域創(chuàng)建發(fā)射光的相長(zhǎng)干涉同時(shí)其他區(qū)域創(chuàng)建發(fā)射光的相消干涉。通過(guò)控制相長(zhǎng)/相消干涉的區(qū)域所在的位置,還可以控制發(fā)射光的波束形狀(例如,圖案)??梢岳獾厥褂酶哒凵渎什牧?>)來(lái)形成sws704。例如,用于波束成形的sws已經(jīng)被開(kāi)發(fā)用于使用諸如硅之類的高折射率材料的近紅外光。下面的表1提供了不同可見(jiàn)光波長(zhǎng)(460nm-藍(lán)、550nm-綠、以及650nm-紅)下的各種材料的折射率。諸如硅之類的材料可以具有高折射率,但是這些材料還可以吸收可見(jiàn)范圍(例如,紅、綠、藍(lán))中的不期望的大百分比的入射光(例如,40%或更多)。一直認(rèn)為可見(jiàn)波長(zhǎng)透明材料(例如,折射率大約為(si3n4))不具有足夠高的折射率來(lái)支持有效地操縱光學(xué)波振面所需要的光學(xué)諧振。諸如氧化鈦。什么是菲涅爾透鏡代理品牌菲涅爾透鏡聚光原理技術(shù)指導(dǎo)。

典型的太陽(yáng)能菲涅爾透鏡就是將齒型朝向電池片,這和之前談到的準(zhǔn)直應(yīng)用中齒型朝向長(zhǎng)共軛方向剛好相反。齒型朝內(nèi)的另外潛在好處的減少太陽(yáng)輻射對(duì)干擾角的沖擊,也能夠避免結(jié)構(gòu)面里堆積灰塵和沙礫。這種類型菲涅爾透鏡通??醋魇欠浅上裢哥R,因?yàn)榇┻^(guò)透鏡的有效區(qū)域焦距是固定的。其主要的作用是比較大限度增加太陽(yáng)輻射到電池片上,用于轉(zhuǎn)化成電力,因而無(wú)須考慮降低圖象球面誤差??蒲邢到y(tǒng)中也經(jīng)常用到菲涅爾透鏡,透鏡與水平面成45±5?夾角。如果兩道不同波長(zhǎng)的光線平行穿過(guò)透鏡,就能夠聚焦在直徑2mm光斑上;它也可以用于視景系統(tǒng)模擬與仿真。

每個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)具有***孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)在襯底的表面上,每個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度的第二孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。示例2包括示例1的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel在襯底的表面上的***區(qū)域中,一個(gè)或多個(gè)第二vcsel在襯底的表面上的不同于***區(qū)域的第二區(qū)域中。示例3包括示例1或2的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel和一個(gè)或多個(gè)第二vcsel在襯底的表面上的偽隨機(jī)圖案中。示例4包括示例1至3中任一項(xiàng)的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel和一個(gè)或多個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射紅外輻射。示例5包括示例1至4中任一項(xiàng)的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)***vcsel中的每個(gè)***vcsel被配置為發(fā)射具有兩個(gè)或更多個(gè)橫向模式的輻射。示例6包括示例1至5中任一項(xiàng)的主題,其中,一個(gè)或多個(gè)第二vcsel中的每個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射具有單個(gè)橫向模式的輻射。示例7包括示例1至6中任一項(xiàng)的主題,還包括在襯底的表面上的一個(gè)或多個(gè)第三垂直腔面發(fā)射激光器(vcsel)結(jié)構(gòu),每個(gè)第三vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度和第二孔徑寬度的第三孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。示例8包括示例1至7中任一項(xiàng)的主題,其中。菲涅爾透鏡圖材料模板有哪些?

并且可以被用來(lái)重建物體104的3d表示。發(fā)射的輻射106和接收的輻射108可以是具有在大約400nm到大約700nm的范圍中的波長(zhǎng)的可見(jiàn)光。在另一示例中,發(fā)射的輻射106和接收的輻射108包括具有在大約700nm到大約1400nm的范圍中的波長(zhǎng)的近紅外輻射。在一個(gè)示例中,發(fā)射的輻射106和接收的輻射108均包括在大約935nm到大約945nm范圍中的波長(zhǎng)。圖2示出了根據(jù)實(shí)施例的光投影儀系統(tǒng)102的各種組件。光投影儀系統(tǒng)102包括光源202、透鏡204、檢測(cè)器206、深度確定電路208、源驅(qū)動(dòng)器電路210、以及處理器212。光源202可以被設(shè)計(jì)為生成輻射106并向物體發(fā)射輻射106。光源202可以是用于生成輻射106的包括一個(gè)或多個(gè)激光二極管或激光腔的激光源。根據(jù)實(shí)施例,激光源202包括用于生成輻射106的多個(gè)vcsel。多個(gè)vcsel可以被布置在諸如硅或其他半導(dǎo)體襯底之類的襯底上,如將參考圖3更詳細(xì)地描述的。透鏡204可以表示用于收集接收輻射108并且向檢測(cè)器206引導(dǎo)接收的輻射的任意數(shù)目的透鏡元件,如根據(jù)本公開(kāi)將明白的。檢測(cè)器206接收輻射108,并且將接收的輻射轉(zhuǎn)換為發(fā)送給深度確定電路208的電信號(hào)。檢測(cè)器206可以是電荷耦合裝置(ccd)或者可以使用互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)陣列來(lái)收集輻射。led菲涅爾透鏡材料模板有哪些?品質(zhì)菲涅爾透鏡均價(jià)

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因此使用詞語(yǔ)“頂”并不將該層限制到任何具體的空間或幾何關(guān)系。本文描述的任意vcsel結(jié)構(gòu)可以包括用于操控光輸出的一個(gè)或多個(gè)元原子800。應(yīng)該理解的是,為了清楚起見(jiàn)*示出了單個(gè)元原子,但是任意數(shù)目的元原子可以被圖案化在頂層802上。盡管在本實(shí)施例中示出了圓柱形狀,但是任意形狀可以用于元原子800。元原子800可以具有基于來(lái)自vcsel的發(fā)射光的峰值波長(zhǎng)的直徑。例如,元原子800可以具有范圍在λ/10到λ/5之間的總直徑。類似地,元原子800的總厚度取決于來(lái)自vcsel的發(fā)射光的峰值波長(zhǎng)。例如,元原子800可以具有大約λ/2的厚度。芯材804可以是具有相對(duì)較低的折射率但是高沉積速率的材料,因此提高了制造元原子800時(shí)的吞吐量。例如,芯材804可以是氮化硅(si3n4),并且可以使用化學(xué)氣相沉積(cvd)或物***相沉積(pvd)技術(shù)沉積。隨后可以使用標(biāo)準(zhǔn)等離子體蝕刻工藝對(duì)所沉積的氮化硅層進(jìn)行蝕刻,以形成每個(gè)元原子800的芯材804。殼材806可以是具有相對(duì)較高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如,諸如氧化鈦(tio2)或硅之類的材料可被用于殼材806,并且可以通過(guò)使用原子層沉積(ald)技術(shù)來(lái)非常薄地沉積。ald允許殼材806以非常薄的厚度共形地覆蓋芯材804的外表面上。例如。廣東菲涅爾透鏡的作用

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