江蘇2PP灰度光刻系統(tǒng)

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。?；叶裙饪碳夹g作為一種新型的光刻技術，具有突破傳統(tǒng)光刻技術的優(yōu)勢。江蘇2PP灰度光刻系統(tǒng)

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品，名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學研究還是制作工業(yè)手板，這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效，而且精度非常高，能夠適用于多種尺度和多種應用領域，極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型，無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果，3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力，讓您專注于更重要的事情。立即購買，體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧！浙江雙光子灰度光刻3D微納加工Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)。

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。

雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。.結(jié)合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序，只需幾個步驟就能實現(xiàn)完:美的具有亞微米形狀精度的結(jié)構打印，適用于廣泛的應用場景和公共平臺用戶的理想選擇Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術。

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟灰度光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術直接制作復雜結(jié)構噴絲頭。這種集成復雜3D結(jié)構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進行內(nèi)窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫(yī)學檢測極其重要，可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起了解雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用。天津雙光子灰度光刻

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Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術中打印速度**快的。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次，即可實現(xiàn)具有光學級別、光滑以及納米結(jié)構表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。江蘇2PP灰度光刻系統(tǒng)