光明新區(qū)電鍍空氣源熱泵設(shè)備

來源: 發(fā)布時間:2021-10-31

電鍍設(shè)備的工藝要求:1.鍍層與基體金屬、鍍層與鍍層之間,應(yīng)有良好的結(jié)合力。2.鍍層應(yīng)結(jié)晶細致、平整、厚度均勻。3.鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙。4.鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項指標(biāo),如光亮度、硬度、導(dǎo)電性等。5.電鍍時間及電鍍過程的溫度,決定鍍層厚度的大小。6.環(huán)境溫度為-10℃~60℃。7.輸入電壓為220V±22V或380V±38V。8.水處理設(shè)備工作噪聲應(yīng)不大于80dB(A)。9.相對濕度(RH)應(yīng)不大于95%。10.原水COD含量為100mg/L~150000mg/L。電鍍所需要的設(shè)備主要是整流電源、鍍槽、陽極和電源導(dǎo)線。光明新區(qū)電鍍空氣源熱泵設(shè)備

電鍍輔助設(shè)備,加溫或降溫裝置:對于加溫一般采用直持加熱方式。就是采用不銹鋼或鈦質(zhì)的電加熱管,直接插到鍍槽內(nèi),有些是固定安裝到槽內(nèi),不影響電鍍工作的槽邊或槽底。對于腐蝕較嚴(yán)重的鍍液,較好采用聚四氟乙烯管制的電加熱器。有些工廠仍采用蒸汽間接加熱。降溫有直接降溫也有間接降溫的方式。在沒有條件安裝冷機的單位,有用冰塊降溫的。即將冰塊放到鍍槽周圍,這是不得已的辦法。真正需要降溫的鍍種還是應(yīng)該采用冷機。交換器的管子也要和加熱管一樣采用可耐鍍液腐蝕的材料。圖1為以聚四氟乙烯為外套的直插式電加熱管。福田區(qū)新型電鍍電極棒生產(chǎn)商電鍍設(shè)備的設(shè)備優(yōu)點:全自動連續(xù)式系統(tǒng)適合大流量的廢水回收。

電鍍輔助設(shè)備:陰極移動或攪拌裝置:有些鍍種或者說大部分鍍種都需要陰極處于擺動狀態(tài),這樣可以加大工作電流,使鍍液發(fā)揮出應(yīng)有的作用(通常是光亮度和分散能力),并且可以防止前端、邊角鍍毛、燒焦。有些鍍種可以用機械或空氣攪拌代替陰極移動。機械攪拌是用耐腐蝕的材料做的攪拌機進行,通常是電機帶動,但轉(zhuǎn)速不可以太高??諝鈹嚢鑴t采用了經(jīng)過濾去除了油污的壓縮空氣。過濾和循環(huán)過濾設(shè)備:為了保證電鍍質(zhì)量,鍍液需要定期過濾。有些鍍種還要求能在工作中不停地循環(huán)過濾。過濾機在化學(xué)工業(yè)中是常用的設(shè)備,因此是有行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)備。不過也是以企業(yè)自己的標(biāo)準(zhǔn)為主??筛鶕?jù)鍍種情況和鍍槽大小以及工藝需要來選用過濾機。

電鍍工藝,對工件表面清潔度要求較高,而超聲波清洗技術(shù)是能達到此要求的理想技術(shù)。利用超聲波清洗技術(shù),可以替代溶劑清洗油污;可以替代電解除油;可以替代強酸浸蝕去除碳鋼及低合金鋼表面的鐵銹及氧化皮。電鍍所需要的設(shè)備主要是整流電源、鍍槽、陽極和電源導(dǎo)線,還有按一定配方配制的鍍液。要使電鍍過程具有科研的或工業(yè)的價值,需要對電鍍過程進行控制,也就是要按照一定的工藝流程和工藝要求來進行電鍍,并且還要用到某些輔助設(shè)備和管理設(shè)備,比如,過濾機、加熱或降溫設(shè)備、化驗設(shè)備、檢測設(shè)備等。有些鍍種還要求能在工作中不停地循環(huán)過濾。

電鍍設(shè)備提高電鍍設(shè)備自動化控制程度,不只可以有效提高生產(chǎn)效率,減輕工人勞動強度,還可以根據(jù)產(chǎn)品特性,進行傳統(tǒng)手工操作生產(chǎn)無法實現(xiàn)的針對性結(jié)構(gòu)設(shè)計,從而提高電鍍產(chǎn)品質(zhì)量。自動電鍍設(shè)備在生產(chǎn)過程中,當(dāng)滾桶旋轉(zhuǎn)到滾桶門面對陽極時,滾桶門打開,這樣滾桶內(nèi)的溶液就能得到時及時更新;而且由于沒有滾桶門的屏蔽,電力線保持相對通暢,在保持恒壓狀態(tài)下,電鍍時的電流密度相應(yīng)增大,從而可以加快鍍層沉積速度,并且有效避免了工件出現(xiàn)桶印的問題。針對滾鍍生產(chǎn)線,進行自動開關(guān)滾桶門和擺動式滾桶的全自動運行設(shè)計。電鍍設(shè)備和電鍍工藝技術(shù)與國際先進水平相比還存在著不小的差距。電鍍滾光機

電鍍技術(shù)稱為電沉積,是在材料表面獲得金屬鍍層的主要方法之一。光明新區(qū)電鍍空氣源熱泵設(shè)備

電鍍設(shè)備的電鍍技術(shù):

整平能力:整平能力(即微觀分散能力)是指在金屬表面上形成鍍層時,鍍液所具有的能使鍍層的微觀輪廓比基體表面更平滑的能力。它表達了基體金屬的粗糙度比較小,波穴的深度小于0.5mm,波峰與波谷的距離很小的表面上鍍層分布的均勻性。麻點:氫氣呈氣泡形式粘附在陰極表面上,阻止金屬在這些部位沉積,它只能沉積在氣泡的周圍,如果氫氣泡在整個電鍍過程中一直停留在陰極表面,則鍍好的鍍層就會有空洞或貫通的縫隙;若氫氣泡在電鍍過程中粘附得不牢固,而是間歇交替地逸出和粘附,那么這些部位將形成淺坑或點穴,在電鍍工業(yè)中通常稱它為麻點。 光明新區(qū)電鍍空氣源熱泵設(shè)備

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