晶圓切割是半導體封裝的中心環(huán)節(jié),傳統(tǒng)刀片切割通過金剛石砂輪實現(xiàn)材料分離。中清航科研發(fā)的超薄刀片(厚度15-20μm)結合主動冷卻系統(tǒng),將切割道寬度壓縮至30μm以內(nèi),崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓,切割速度提升40%,為LED、MEMS器件提供經(jīng)濟高效的解決方案。針對超薄晶圓(<50μm)易碎裂難題,中清航科激光隱形切割系統(tǒng)采用紅外脈沖激光在晶圓內(nèi)部形成改性層,通過擴張膜實現(xiàn)無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋,良率提升至99.3%,尤其適用于存儲芯片、CIS等器件,助力客戶降低材料損耗成本。中清航科切割冷卻系統(tǒng)專利設計,溫差梯度控制在0.3℃/mm。徐州藍寶石晶圓切割企業(yè)
大規(guī)模量產(chǎn)場景中,晶圓切割的穩(wěn)定性與一致性至關重要。中清航科推出的全自動切割生產(chǎn)線,集成自動上下料、在線檢測與 NG 品分揀功能,單臺設備每小時可處理 30 片 12 英寸晶圓,且通過工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)平臺實現(xiàn)多設備協(xié)同管控,設備綜合效率(OEE)提升至 90% 以上,明顯降低人工干預帶來的質量波動。隨著芯片集成度不斷提高,晶圓厚度逐漸向超薄化發(fā)展,目前主流晶圓厚度已降至 50-100μm,切割過程中極易產(chǎn)生變形與破損。中清航科創(chuàng)新采用低溫輔助切割技術,通過局部深冷處理增強晶圓材料剛性,配合特制真空吸附平臺,確保超薄晶圓切割后的翹曲度小于 20μm,為先進封裝工藝提供可靠的晶圓預處理保障。南京碳化硅晶圓切割企業(yè)超窄街切割方案中清航科實現(xiàn)30μm道寬,芯片數(shù)量提升18%。
UV膜殘膠導致芯片貼裝失效。中清航科研發(fā)酶解清洗液,在50℃下選擇性分解膠層分子鏈,30秒清理99.9%殘膠且不損傷鋁焊盤,替代高污染溶劑清洗。針對3D NAND多層堆疊結構,中清航科采用紅外視覺穿透定位+自適應焦距激光,實現(xiàn)128層晶圓的同步切割。垂直對齊精度±1.2μm,層間偏移誤差<0.3μm。中清航科綠色方案整合電絮凝+反滲透技術,將切割廢水中的硅粉、金屬離子分離回收,凈化水重復利用率達98%,符合半導體廠零液體排放(ZLD)標準。
晶圓切割過程中產(chǎn)生的應力可能導致芯片可靠性下降,中清航科通過有限元分析軟件模擬切割應力分布,優(yōu)化激光掃描路徑與能量輸出模式,使切割后的晶圓殘余應力降低 40%。經(jīng)第三方檢測機構驗證,采用該工藝的芯片在溫度循環(huán)測試中表現(xiàn)優(yōu)異,可靠性提升 25%,特別適用于航天航空等應用領域。為幫助客戶快速掌握先進切割技術,中清航科建立了完善的培訓體系。其位于總部的實訓基地配備全套切割設備與教學系統(tǒng),可為客戶提供理論培訓、實操演練與工藝調(diào)試指導,培訓內(nèi)容涵蓋設備操作、日常維護、工藝優(yōu)化等方面,確??蛻魣F隊能在短時間內(nèi)實現(xiàn)設備的高效運轉。第三代半導體切割中清航科提供全套解決方案,良率95%+。
在半導體設備國產(chǎn)化替代的浪潮中,中清航科始終堅持自主創(chuàng)新,中心技術 100% 自主可控。其晶圓切割設備的關鍵部件如激光發(fā)生器、精密導軌、控制系統(tǒng)等均實現(xiàn)國產(chǎn)化量產(chǎn),不僅擺脫對進口部件的依賴,還將設備交付周期縮短至 8 周以內(nèi),較進口設備縮短 50%,為客戶搶占市場先機提供有力支持。展望未來,隨著 3nm 及更先進制程的突破,晶圓切割將面臨更小尺寸、更高精度的挑戰(zhàn)。中清航科已啟動下一代原子級精度切割技術的研發(fā),計劃通過量子點標記與納米操控技術,實現(xiàn) 10nm 以下的切割精度,同時布局晶圓 - 封裝一體化工藝,為半導體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)發(fā)展提供前瞻性的技術解決方案,與全球客戶共同邁向更微觀的制造領域。切割粉塵回收模塊中清航科集成,重金屬污染減排90%以上。南通晶圓切割劃片廠
5G射頻芯片切割中清航科特殊工藝,金線偏移量<0.8μm。徐州藍寶石晶圓切割企業(yè)
晶圓切割作為半導體制造流程中的關鍵環(huán)節(jié),直接影響芯片的良率與性能。中清航科憑借多年行業(yè)積淀,研發(fā)出高精度激光切割設備,可實現(xiàn)小切割道寬達 20μm,滿足 5G 芯片、車規(guī)級半導體等領域的加工需求。其搭載的智能視覺定位系統(tǒng),能實時校準晶圓位置偏差,將切割精度控制在 ±1μm 以內(nèi),為客戶提升 30% 以上的生產(chǎn)效率。在半導體產(chǎn)業(yè)快速迭代的當下,晶圓材料呈現(xiàn)多元化趨勢,從傳統(tǒng)硅基到碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導體,切割工藝面臨更大挑戰(zhàn)。中清航科針對性開發(fā)多材料適配切割方案,通過可調(diào)諧激光波長與動態(tài)功率控制技術,完美解決硬脆材料切割時的崩邊問題,崩邊尺寸可控制在 5μm 以下,助力第三代半導體器件的規(guī)?;a(chǎn)。徐州藍寶石晶圓切割企業(yè)