coulson干冰清洗ICESTORM45在模具行業(yè)的應(yīng)用已從新興工藝發(fā)展為高效清潔的主流方案,其**優(yōu)勢(shì)在于非接觸、無(wú)殘留、高效環(huán)保,尤其適用于精密模具的在線維護(hù)。以下從技術(shù)原理、應(yīng)用場(chǎng)景、優(yōu)勢(shì)價(jià)值、主流設(shè)備及實(shí)操要點(diǎn)五個(gè)維度系統(tǒng)解析:一、技術(shù)原理:三重協(xié)同效應(yīng)干冰清洗利用壓縮空氣將固態(tài)二氧化碳顆粒(-78.5℃)加速至超音速噴射至模具表面,通過以下協(xié)同作用實(shí)現(xiàn)無(wú)損清潔:動(dòng)能沖擊:高速顆粒撞擊污垢,剝離油污、脫模劑殘留等附著物。低溫脆化:極低溫使污染物(如樹脂、積碳)脆化,降低附著力。微爆升華:干冰瞬間升華為氣體,體積膨脹600-800倍,產(chǎn)生“微爆破”效應(yīng)去除縫隙污漬。全程無(wú)需水或化學(xué)溶劑,無(wú)二次污染,符合食品、醫(yī)藥行業(yè)潔凈標(biāo)準(zhǔn)。典型應(yīng)用場(chǎng)景與解決方案1. 注塑模具清洗痛點(diǎn):塑料殘留物堵塞0.1mm以下微孔,導(dǎo)致產(chǎn)品飛邊、光潔度下降1。方案:干冰在線清洗無(wú)需拆卸模具,徹底去除脫模劑和碳化層,避免酸洗腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。案例:某汽車部件廠清洗后模具停機(jī)時(shí)間減少80%,次品率下降50%。2. 壓鑄模具去鋁渣痛點(diǎn):高溫鋁液形成氧化鋁硬垢,傳統(tǒng)噴砂損傷模具紋理(如皮革紋)。方案:干冰精細(xì)去除鋁渣,保護(hù)表面紋理,延長(zhǎng)模具壽命30%以上輪胎清潔就選擇酷爾森干冰清洗!對(duì)輪胎無(wú)磨損,角落、縫隙清潔一次到位。無(wú)水分殘留,不會(huì)銹蝕輪胎!遼寧進(jìn)口干冰清洗代理商
沉積 / 刻蝕腔體及部件清潔清潔對(duì)象:CVD(化學(xué)氣相沉積)腔體、PVD(物***相沉積)靶材、刻蝕機(jī)反應(yīng)室(內(nèi)壁、噴頭、電極)。污染問題:沉積過程中,薄膜材料(如 SiO?、SiN、金屬 Cu/Al)會(huì)在腔體壁、靶材邊緣沉積,形成 “結(jié)垢層”,積累到一定厚度會(huì)剝落并污染晶圓;刻蝕反應(yīng)室中,等離子體與晶圓反應(yīng)生成的聚合物(如 CF?刻蝕硅產(chǎn)生的 CxFy)會(huì)附著在噴頭和電極表面,導(dǎo)致刻蝕速率不均勻。干冰清洗作用:無(wú)需拆卸腔體(傳統(tǒng)清潔需拆解,耗時(shí) 4-8 小時(shí),且可能引入外界污染),通過酷爾森icestorm干冰顆粒的沖擊和低溫脆化效應(yīng),使結(jié)垢層(硬度較高的陶瓷或金屬薄膜)與腔體基材分離,隨氣流排出。保護(hù)腔體內(nèi)部精密部件(如石英噴頭、金屬電極):控制干冰顆粒尺寸(3-5mm)和壓力(0.3-0.6MPa),可去除靶材邊緣的沉積殘留,同時(shí)不損傷靶材表面(靶材精度直接影響沉積薄膜的均勻性)。安徽進(jìn)口干冰清洗銷售酷爾森干冰清洗,干冰清洗設(shè)備制造商,高效、節(jié)能、環(huán)保、降本,為企業(yè)提供清潔方案。
未來發(fā)展趨勢(shì)智能化集成:結(jié)合AI視覺識(shí)別污垢類型,自動(dòng)調(diào)節(jié)噴射參數(shù)(如壓力、粒度),提升精度。成本優(yōu)化:干冰制備與儲(chǔ)運(yùn)成本占當(dāng)前應(yīng)用瓶頸的60%,固態(tài)CO?回收技術(shù)或成突破點(diǎn)。標(biāo)準(zhǔn)制定:國(guó)際海事組織(IMO)正推動(dòng)干冰清洗納入船舶綠色維護(hù)標(biāo)準(zhǔn),預(yù)計(jì)2030年覆蓋率將達(dá)40%。結(jié)論:干冰清洗技術(shù)通過替代高污染、高風(fēng)險(xiǎn)的船舶傳統(tǒng)清潔方式,正在重塑行業(yè)維護(hù)標(biāo)準(zhǔn)。其在甲板、螺旋槳、油艙等場(chǎng)景的成功應(yīng)用已驗(yàn)證其高效性與可持續(xù)性,隨著智能化與成本問題的逐步解決,該技術(shù)將成為船舶環(huán)保運(yùn)維的**支柱??釥柹璫oulson的干冰清洗技術(shù)憑借其環(huán)保、高效和無(wú)損的特性,在船舶行業(yè)的多個(gè)關(guān)鍵場(chǎng)景中實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)新應(yīng)用,逐步替代傳統(tǒng)清洗方式。
在半導(dǎo)體行業(yè),生產(chǎn)環(huán)境(如 Class 1 級(jí)潔凈室)和產(chǎn)品(晶圓、芯片、精密部件)對(duì) “零污染、無(wú)損傷、超高潔凈度” 的要求堪稱工業(yè)領(lǐng)域**嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)之一。酷爾森icestorm干冰清洗憑借無(wú)殘留、化學(xué)惰性、低溫?zé)o損、適配精密場(chǎng)景等特性,成為解決半導(dǎo)體生產(chǎn)中 “微污染物去除、設(shè)備維護(hù)、產(chǎn)品良率提升” 的關(guān)鍵技術(shù)。其**應(yīng)用場(chǎng)景覆蓋晶圓制造、封裝測(cè)試及設(shè)備維護(hù)全流程,具體如下:一、晶圓制造環(huán)節(jié):從光刻到沉積 / 刻蝕的精密清潔晶圓(硅片、化合物半導(dǎo)體晶圓)是半導(dǎo)體的**基材,其表面及生產(chǎn)設(shè)備的潔凈度直接決定芯片的良率(每片晶圓含數(shù)百個(gè)芯片,一個(gè)微米級(jí)雜質(zhì)可能導(dǎo)致整片失效)。干冰清洗在以下關(guān)鍵工序中發(fā)揮不可替代的作用:1. 光刻掩模版(光罩)清潔清潔對(duì)象:光刻掩模版(表面鍍鉻層、石英基底)、光罩盒(Pod)。污染問題:光罩是光刻圖案的 “母版”,表面若殘留納米級(jí)顆粒(≤0.1μm)、有機(jī)污染物(如光刻膠殘?jiān)?、金屬離子,會(huì)導(dǎo)致光刻圖案轉(zhuǎn)移時(shí)出現(xiàn)缺陷(如線寬偏差、圖形畸變),直接降低芯片良率。傳統(tǒng)清潔(如兆聲波清洗、化學(xué)濕法清洗)可能引入水分殘留或劃傷鍍鉻層(厚度*數(shù)十納米)。運(yùn)用干冰清洗,功能獨(dú)特實(shí)用,清潔無(wú)壓力。流程簡(jiǎn)潔穩(wěn)定,優(yōu)勢(shì)明顯。
PACK 組裝與電池組維護(hù)在電池 PACK(模組組裝、Pack 殼體清潔)及退役電池回收前的預(yù)處理中,干冰清洗可解決以下問題:1. 模組連接件與殼體清潔清潔對(duì)象:電芯間連接片(銅排、鋁排)、Pack 殼體內(nèi)部。污染問題:連接片表面可能有氧化層、油污,影響導(dǎo)電性能;殼體內(nèi)部可能殘留粉塵、膠黏劑殘?jiān)?,影響模組裝配精度??釥柹璱cestorm干冰清洗作用:去除氧化層和油污,提升連接片導(dǎo)電性;清潔殼體死角,避免雜質(zhì)影響模組散熱或絕緣性能。2. 退役電池拆解前的預(yù)處理清潔對(duì)象:退役電芯表面、殼體。污染問題:退役電池表面可能附著電解液殘留、粉塵或腐蝕物,拆解時(shí)易導(dǎo)致污染物擴(kuò)散。干冰清洗作用:安全去除表面污染物,避免拆解過程中的二次污染,同時(shí)不損傷電芯結(jié)構(gòu),為后續(xù)材料回收(如正極材料、銅箔、鋁箔)提供潔凈基礎(chǔ)。生產(chǎn)設(shè)備與環(huán)境維護(hù)鋰電生產(chǎn)設(shè)備(如潔凈室管道、自動(dòng)化機(jī)器人、檢測(cè)儀器)的清潔直接影響生產(chǎn)穩(wěn)定性:潔凈室管道與風(fēng)淋系統(tǒng):去除管道內(nèi)的粉塵、微生物殘留,避免污染潔凈環(huán)境;清潔風(fēng)淋室噴嘴,保障氣流均勻性。自動(dòng)化設(shè)備部件:如機(jī)械臂抓手、移栽機(jī)構(gòu),去除表面附著的極片粉末或膠黏劑,避免對(duì)電芯造成二次污染。干冰清洗功能廣適用,清潔不留隱患。流程高效便捷,優(yōu)勢(shì)多多。海南智能干冰清洗銷售
干冰清洗具備強(qiáng)大功能,清潔輕松便捷。流程安全高效,優(yōu)勢(shì)廣。遼寧進(jìn)口干冰清洗代理商
潔凈室環(huán)境與管道清潔潔凈室地面、墻面:去除表面的微塵(≥0.5μm 顆粒需控制在每立方英尺≤1 個(gè)),干冰清洗無(wú)二次揚(yáng)塵(CO?氣體可帶走粉塵),符合潔凈室 “零微粒擴(kuò)散” 要求。工藝管道(如高純氣體管道、真空管道):去除管道內(nèi)的氧化層、焊渣殘留,避免氣體輸送時(shí)污染物脫落污染晶圓??釥柹璱cestorm干冰清洗在半導(dǎo)體行業(yè)的**優(yōu)勢(shì)無(wú)殘留污染:干冰(固態(tài) CO?)升華后變?yōu)闅怏w,無(wú)液體、固體殘留,徹底避免傳統(tǒng)化學(xué)清洗(如 HF、SC1/SC2 洗液)帶來的離子污染(Na?、K?等金屬離子會(huì)導(dǎo)致芯片漏電)。無(wú)損保護(hù)精密部件:通過參數(shù)化控制(顆粒大小 3μm-5mm、壓力 0.05-0.8MPa),可適配從納米級(jí)光罩到毫米級(jí)模具的清潔需求,避免機(jī)械劃傷或化學(xué)腐蝕(如鋁焊盤耐腐蝕性差,無(wú)法用酸性清洗劑)。適配 “惰性環(huán)境” 需求:CO?是惰性氣體,不與半導(dǎo)體材料(硅、金屬、陶瓷)反應(yīng),尤其適合光刻、沉積等 “禁化學(xué)物質(zhì)” 的工藝環(huán)節(jié)。提升生產(chǎn)效率:支持在線清潔(如刻蝕腔體可在工藝間隙清潔,無(wú)需停機(jī)拆解),傳統(tǒng)腔體清洗需 4-8 小時(shí),干冰清洗可縮短至 30 分鐘內(nèi),設(shè)備稼動(dòng)率提升 20% 以上。遼寧進(jìn)口干冰清洗代理商