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EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,這是一個(gè)開放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時(shí)也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會(huì)展中心舉行的中國國際光電博覽會(huì)上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?。SmartNIL技術(shù)可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。山東納米壓印推薦產(chǎn)品
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù):
加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米
比較大基板尺寸:150毫米,200毫米
**小基板尺寸:單芯片,100毫米
比較大接觸力:10、20、60 kN
比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C
夾盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200
200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT
真空:
標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴
可選:0.00001 mbar
聯(lián)電納米壓印有哪些品牌IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),是用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。
SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。例如,SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標(biāo)準(zhǔn)。SmartNIL還非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)的微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備的生產(chǎn)。此外,SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要。
特征:
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度
專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)
經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的分辨率低至40 nm或更小
大面積全場壓印
總擁有成本比較低
在地形上留下印記
對(duì)準(zhǔn)能力
室溫過程
開放式材料平臺(tái)
EVG ® 770特征:
微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®
簡單實(shí)施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償
可選的自動(dòng)盒帶間處理
EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù):
晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米
解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn):頂側(cè)顯微鏡,用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印記區(qū)域:長達(dá)50 x 50毫米
自動(dòng)分離:支持的
前處理:涂層:液滴分配(可選)
EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。
SmartNIL技術(shù)簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們愿意與您共同進(jìn)步。
EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。聯(lián)電納米壓印應(yīng)用
EVG ? 7200是自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。山東納米壓印推薦產(chǎn)品
納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上,從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們愿意與您共同進(jìn)步。
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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,該公司其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營理念;“誠守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。以滿足顧客要求為己任;以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn);以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo),提供***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來,一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會(huì)各界的普遍認(rèn)可與大力支持。