測量復(fù)雜的有機(jī)材料典型的有機(jī)發(fā)光顯示膜包括幾層： 空穴注入層，空穴傳輸層，以及重組/發(fā)光層。所有這些層都有不尋常有機(jī)分子（小分子和/或聚合物）。雖然有機(jī)分子高度反常色散，測量這些物質(zhì)的光譜反射充滿挑戰(zhàn)，但對Filmetrics卻不盡然。我們的材料數(shù)據(jù)庫覆蓋整個OLED的開發(fā)歷史，能夠處理隨著有機(jī)分子而來的高折射散射和多種紫外光譜特征。軟基底上的薄膜有機(jī)發(fā)光顯示器具有真正柔性顯示的潛力，要求測量像PET（聚乙烯）塑料這樣有高雙折射的基準(zhǔn)，這對托偏儀測量是個嚴(yán)重的挑戰(zhàn)： 或者模擬額外的復(fù)雜光學(xué)，或者打磨PET背面。 而這些對我們非偏振反射光譜來說都不需要，極大地節(jié)約了人員培訓(xùn)和測量時間。操作箱中測量有機(jī)發(fā)光顯示器材料對水和氧極度敏感。 很多科研小組都要求在控制的干燥氮?dú)獠僮飨渲袦y量。 而我們體積小，模塊化，光纖設(shè)計的儀器提供非密封、實時“操作箱”測量。F30測厚范圍：15nm-70μm；波長：380-1050nm。中科院膜厚儀技術(shù)原理
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。
測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數(shù)。有趣的事，氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型，F(xiàn)20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì)，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當(dāng)量。 Profilm3D膜厚儀推薦產(chǎn)品只需按下一個按鈕，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。
FSM 413 紅外干涉測量設(shè)備
關(guān)鍵詞：厚度測量，光學(xué)測厚，非接觸式厚度測量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測厚，近紅外光測厚，TSV, CD, Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度，聚合物厚度, 背磨厚度，上下兩個測試頭。Michaelson干涉法，翹曲變形。
如果您對該產(chǎn)品感興趣的話，可以給我留言！
產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測量設(shè)備
· 產(chǎn)品型號：FSM 413EC, FSM 413MOT，F(xiàn)SM 413SA DP，F(xiàn)SM413C2C, FSM 8108 VITE C2C
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集成電路故障分析故障分析 (FA) 技術(shù)用來尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。
故障分析中需要進(jìn)行薄膜厚度測量的兩種主要類型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝) 和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)的厚度。背面故障分析背面故障分析需要在電路系統(tǒng)成像前移除大部分硅晶粒的厚度，并了解在每個薄化步驟后剩余的硅厚度是相當(dāng)關(guān)鍵的。 Filmetrics F3-sX是為了測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度而專門設(shè)計的系統(tǒng)。 厚度從5微米到1000微米能夠很容易的測量，另外可選配模組來延伸**小測量厚度至0.1微米，同時具有單點(diǎn)和多點(diǎn)測繪的版本可供選擇。
測量范例現(xiàn)在我們使用我們的 F3-s1550 系統(tǒng)測量在不同的背面薄化過程的硅層厚度.具備特殊光學(xué)設(shè)計之 F3-S1550利用比直徑更小於10μm的光斑尺寸得以測量拋光以及粗糙或不均勻表面的硅層厚度 紫外光可測試的深度：***的薄膜（SOI 或 Si-SiGe）或者厚樣的近表面局部應(yīng)力。
F60 系列
包含的內(nèi)容：集成平臺/光譜儀/光源裝置（不含平臺）4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈
型號厚度范圍*波長范圍
F60-t:20nm-70μm 380-1050nm
F60-t-UV:5nm-40μm 190-1100nm
F60-t-NIR:100nm-250μm 950-1700nm
F60-t-EXR:20nm-250μm 380-1700nm
F60-t-UVX:5nm-250μm 190-1700nm
F60-t-XT0:2μm-450μm 1440-1690nm
F60-t-s980:4μm-1mm 960-1000nm
F60-t-s1310:7μm-2mm 1280-1340nm
F60-t-s1550:10μm-3mm 1520-1580nm
額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 F20測厚范圍：15nm - 70μm；波長：380-1050nm。Filmetrics F10-AR膜厚儀有哪些應(yīng)用
Filmetrics 提供一系列的和測繪系統(tǒng)來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨(dú)的光刻膠薄膜。中科院膜厚儀技術(shù)原理
隨著儀器儀表和計算機(jī)的完美結(jié)合，為了更好的滿足人們對精神世界的需求，體驗多維世界給人們帶來的**，儀器儀表的虛擬化開始發(fā)展。身臨其境接受客觀實物，給美又增添了一絲創(chuàng)意。在計算機(jī)和互聯(lián)網(wǎng)的急速發(fā)展到整個世界的背景下，儀器儀表也開始向網(wǎng)絡(luò)化突進(jìn)，結(jié)合新的科技設(shè)備，通過廣域網(wǎng)和局域網(wǎng)直接操控儀器儀表，對公司的管理，經(jīng)營一體化，應(yīng)用模式的分析等各大方面產(chǎn)生影響。有限責(zé)任公司企業(yè)通過網(wǎng)絡(luò)這個平臺與客戶直接的交流，突破了世界和空間的限制，行家遠(yuǎn)程操控對儀器儀表進(jìn)行維護(hù)和分析。高科技的產(chǎn)品也隨之而來。伴隨移動互聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)式增長，如今，它已經(jīng)漸漸取代電子商務(wù)成為了整個互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)增速**快的領(lǐng)域，而移動終端的入口也隨即成為了傳統(tǒng)行業(yè)的必爭之地。磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)行業(yè)進(jìn)軍移動互聯(lián)網(wǎng)實現(xiàn)線上發(fā)展勢在必行。中國其他型正面臨百年未有之大變局，行業(yè)行家認(rèn)為，中美貿(mào)易戰(zhàn)不會有終點(diǎn)，中美關(guān)系時好時壞將成為常態(tài)，儀器儀表行業(yè)無法排除大局勢的影響，且不要把問題聚焦在關(guān)稅上。中國經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國制造的競爭力在于工業(yè)門類齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專業(yè)和細(xì)分。中科院膜厚儀技術(shù)原理
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊和良好的市場口碑。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。