微透鏡納米壓印三維芯片應用

來源: 發(fā)布時間:2020-09-02

    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術,但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當的開口率,降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長,經過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程,是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網絡。EVG的納米壓印設備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實現。微透鏡納米壓印三維芯片應用

EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統

分步重復納米壓印光刻技術,可進行有效的母版制作


EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從**

大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括精確的對準功能,完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 碳化硅納米壓印可以免稅嗎SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統

應用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統

IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。


HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統達300毫米

結合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術生產應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統,將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統,可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統,以比較好地滿足其生產需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統,是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統。

       EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說:“我們開發(fā)新技術和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產品創(chuàng)意商業(yè)化。技術,我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內,我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a階段的產品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內的協作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用,并遵循公司模塊計劃的推出。 SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留可擴展性和易于維護的特點。EVG7200納米壓印有誰在用

EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學(WLO)的制造。微透鏡納米壓印三維芯片應用

UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產品線,包括不同的***積壓印系統,大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術以及多種用途的聚合物印模技術。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴展的晶圓尺寸和產量。EVG的SmartNI技術達到了納米壓印的長期預期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產微米和納米級結構的高性能,低成本和具有批量生產能力的技術。


微透鏡納米壓印三維芯片應用

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