吉林本地光刻機(jī)

來源: 發(fā)布時間:2020-06-11

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)特征:

生產(chǎn)平臺以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢;

多功能平臺支持各種形狀,尺寸,高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動處理;

高達(dá)52,000 cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征;

CoverSpin TM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性;

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層;

納流®涂布,并通過結(jié)構(gòu)的保護(hù);

自動面膜處理和存儲;

光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒;

使用橋接工具系統(tǒng)對多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,薄或翹曲的晶圓處理;

返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng);

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)。 EVG的大批量制造系統(tǒng)目的是在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,為全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。吉林本地光刻機(jī)

IQ Aligner® 自動化掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

特色:EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達(dá)200毫米。

技術(shù)數(shù)據(jù):IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求。除了多種對準(zhǔn)功能外,該系統(tǒng)還通過專門配置進(jìn)行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證,可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標(biāo)準(zhǔn)的頂側(cè)或底側(cè)對準(zhǔn)與集成的IR對準(zhǔn)功能之間的混合匹配操作進(jìn)一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域,尤其是在與工程或粘合基板對準(zhǔn)時。該系統(tǒng)還通過快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶片對準(zhǔn)跳動控制。 EVG620光刻機(jī)推薦產(chǎn)品只有接近客戶,才能得知客戶**真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。

EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng):

智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺)

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能跟/蹤功能

智能處理功能:

事/故和警報分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤

晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米


模塊數(shù):

工藝模塊:2

烘烤/冷卻模塊:**多10個

工業(yè)自動化功能:Ergo裝載盒式工作站/

SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口


分配選項:

各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸

超音波


EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項

預(yù)對準(zhǔn):光學(xué)/機(jī)械

ID讀取器:條形碼,字母數(shù)字,數(shù)據(jù)矩陣

系統(tǒng)控制:

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR


分配選項:

各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度

液體底漆/預(yù)濕/洗盤

去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)

恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)

電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能

可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸


超音波


可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤、曝光后烘烤和硬烘烤操作。

     EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實:“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加?!?“*從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場***的地位,同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會?!?

      業(yè)界**的設(shè)備制造商**近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計劃,以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計十多種傳感器。其中包括3D感測相機(jī),指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復(fù)合年增長率超過11%*。 EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)(自動化和半自動化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm。微流體光刻機(jī)美元價

可以使用用于壓印光刻的工具,例如紫外光納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。吉林本地光刻機(jī)

IQ Aligner®NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式

楔形補(bǔ)償:全自動軟件控制;非接觸式


IQ Aligner®NT曝光選項:間隔曝光/洪水曝光

先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:自動對準(zhǔn)

暗場對準(zhǔn)功能/完整的明場掩模移動(FCMM)

大間隙對準(zhǔn)

跳動控制對準(zhǔn)


IQ Aligner®NT系統(tǒng)控制:

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

實時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除


如果您需要確認(rèn)準(zhǔn)確的產(chǎn)品的信息,請聯(lián)系我們。如果需要鍵合機(jī),請看官網(wǎng)信息。 吉林本地光刻機(jī)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】公司。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。公司以用心服務(wù)為重點價值,希望通過我們的專業(yè)水平和不懈努力,將磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。