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IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
應(yīng)用:用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。
EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制(制造)的***選擇。紫外光納米壓印保修期多久
EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到比較大150毫米。
該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
EVG6200NT納米壓印有哪些品牌HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上**納米壓印功能,具有較低的力和保形壓印,快速高功率曝光和平滑壓模分離。
EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)
應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)
EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。
EVG ® 510 HE特征:
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動(dòng)化壓花工藝
EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù),在100毫米范圍內(nèi)。
EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。
EVG610特征:
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG610附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):
晶圓直徑(基板尺寸)
標(biāo)準(zhǔn)光刻:比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片
解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
支持流程:柔軟的UV-NIL
曝光源:汞光源或紫外線LED光源
自動(dòng)分離:不支持
工作印章制作:外部
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī),微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。上海納米壓印自動(dòng)化測(cè)量
EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。紫外光納米壓印保修期多久
HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過(guò)程和模板)
■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)
■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配,壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
紫外光納米壓印保修期多久
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司辦公設(shè)施齊全,辦公環(huán)境優(yōu)越,為員工打造良好的辦公環(huán)境。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司的主營(yíng)品牌,是專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】公司,擁有自己**的技術(shù)體系。我公司擁有強(qiáng)大的技術(shù)實(shí)力,多年來(lái)一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】的發(fā)展和創(chuàng)新,打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動(dòng)力,致力于為顧客帶來(lái)***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。