表面三維輪廓儀對(duì)精密加工的作用：
一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性：
通過(guò)光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè)，得出物件的誤差和超差參數(shù)，**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”，造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離，**終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。
二、提高效率：
智能化檢測(cè)，全自動(dòng)測(cè)量，檢測(cè)時(shí)只需將物件放置在載物臺(tái)，然后在檢定軟件上選擇相關(guān)參數(shù)，即可一鍵分析批量測(cè)量。擯棄傳統(tǒng)檢測(cè)方法耗時(shí)耗力，精確度低的缺點(diǎn)，**提高加工效率。
三、涵蓋面廣的2D、3D形貌參數(shù)分析：
表面三維輪廓儀可測(cè)量300余種2D、3D參數(shù)，無(wú)論加工的物件使用哪一種評(píng)定標(biāo)準(zhǔn)，都可以提供***的檢測(cè)結(jié)果作為評(píng)定依據(jù)，可輕松獲取被測(cè)物件精確的線粗糙度、面粗糙度、輪廓度等參數(shù)。
四、穩(wěn)定性強(qiáng)，高重復(fù)性：
儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì)，不受外部環(huán)境影響測(cè)量的準(zhǔn)確性。超精密的Z向掃描模塊和測(cè)量軟件完美結(jié)合，保證高重復(fù)性，將測(cè)量誤差降低到亞納米級(jí)別。 表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更***，更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征。日本輪廓儀值得買
輪廓儀產(chǎn)品概述：
NanoX-2000/3000
系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量（PSI）、白光垂直掃描干涉測(cè)量（VSI）和單色光
垂直掃描干涉測(cè)量（CSI）等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測(cè)件的表面粗
糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加
工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。
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表面三維微觀形貌測(cè)量的意義
在生產(chǎn)中，表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有**直接的影響，而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更***，更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來(lái)越受到重視，因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過(guò)兌三維形貌的測(cè)量可以比較***的評(píng)定表面質(zhì)量的優(yōu)劣，進(jìn)而確認(rèn)加工方法的好壞以及設(shè)計(jì)要求的合理性，這樣就可以反過(guò)來(lái)通過(guò)知道加工，優(yōu)化加工工藝以及加工出高質(zhì)量的表面，確保零件使用功能的實(shí)現(xiàn)。
表面三位微觀形貌的此類昂方法非常豐富，通常可分為接觸時(shí)和非接觸時(shí)兩種，其中以非接觸式測(cè)量方法為主。
NanoX-8000 3D輪廓測(cè)量主要技術(shù)參數(shù)
3D測(cè)量主要技術(shù)指標(biāo)（1）：
測(cè)量模式： PSI + VSI + CSI
Z軸測(cè)量范圍： 大行程PZT 掃描 （300um 標(biāo)配/500um選配）
10mm 精密電機(jī)拓展掃描
CCD相機(jī)： 1920x1200 高速相機(jī)（標(biāo)配）
干涉物鏡： 2.5X, 5X, 10X（標(biāo)配）, 20X, 50X, 100X(NIKON )
物鏡切換： 5孔電動(dòng)鼻切換 FOV： 1100x700um(10X物鏡), 220x140um(50X物鏡)
Z軸聚焦： 高精密直線平臺(tái)自動(dòng)聚焦
照明系統(tǒng)： 高 效長(zhǎng)壽白光LED + 濾色鏡片電動(dòng)切換（綠色/藍(lán)色）
傾斜調(diào)節(jié)： ±5°電動(dòng)調(diào)節(jié)
橫向分辨率： ≥0.35μm（與所配物鏡有關(guān)）
3D測(cè)量主要技術(shù)指標(biāo)（2）：
垂直掃描速度： PSI : <10s，VSI/CSI：< 38um/s
高度測(cè)量范圍： 0.1nm – 10mm
表面反射率： > 0.5%
測(cè)量精度: PSI: 垂直分辨率 < 0.1nm
準(zhǔn)確度 < 1nm
RMS重復(fù)性 < 0.01nm (1σ)
臺(tái)階高重復(fù)性：0.15nm(1σ)
VSI/CSI：垂直分辨率 < 0.5nm
準(zhǔn)確度<1%
重復(fù)性<0.1% (1σ，10um臺(tái)階高) 輪廓儀可用于藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）。
輪廓儀對(duì)所測(cè)樣品的尺寸有何要求？
答：輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm（可擴(kuò)展），Z向測(cè)量范圍比較大可達(dá)10mm，但由于白光干涉儀單次測(cè)量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例，在1mm左右），因而在測(cè)量大尺寸的樣品時(shí)，全檢的方式需要進(jìn)行拼接測(cè)量，檢測(cè)效率會(huì)比較低，建議尋找樣品表 面的特征位置或抽取若干區(qū)域進(jìn)行抽點(diǎn)檢測(cè)，以單點(diǎn)或多點(diǎn)反映整個(gè)面的粗糙度參數(shù)；
4.測(cè)量的**小尺寸是否可以達(dá)到12mm，或者能夠測(cè)到更小的尺寸？
如果需要了解更多，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)官網(wǎng)。 由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會(huì)導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。Nano X-3000輪廓儀價(jià)格怎么樣
白光干涉系統(tǒng)基于無(wú)限遠(yuǎn)顯微鏡系統(tǒng)，通過(guò)干涉物鏡產(chǎn)生干涉條紋，使基本的光學(xué)顯微鏡系統(tǒng)變?yōu)榘坠飧缮鎯x.日本輪廓儀值得買
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測(cè)量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測(cè)量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測(cè)量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測(cè)量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測(cè)量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡(jiǎn)單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過(guò)10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡(jiǎn)便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測(cè)量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測(cè)量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。日本輪廓儀值得買
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力，努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí)，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。