河南光刻機優(yōu)惠價格

來源: 發(fā)布時間:2021-06-11

IQ Aligner® 自動化掩模對準系統(tǒng)

特色:EVG ® IQ定位儀®平臺用于自動非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達200毫米。

技術(shù)數(shù)據(jù):IQ Aligner是具有高度自動化程度的非接觸式接近光刻平臺,可滿足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至**/低并增加掩模壽命和產(chǎn)品良率的需求。除了多種對準功能外,該系統(tǒng)還通過專門配置進行了廣/泛的安裝和現(xiàn)場驗證,可自動處理和處理翹曲或變薄的晶圓。標準的頂側(cè)或底側(cè)對準與集成的IR對準功能之間的混合匹配操作進一步拓寬了應(yīng)用領(lǐng)域,尤其是在與工程或粘合基板對準時。該系統(tǒng)還通過快速響應(yīng)的溫度控制工具集支持晶片對準跳動控制。 只有接近客戶,才能得知客戶**真實的需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。河南光刻機優(yōu)惠價格

光刻機軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設(shè)計,注重用戶友好性,并可輕松引導(dǎo)操作員完成每個流程步驟。多語言支持,單個用戶帳戶設(shè)置和集成錯誤記錄/報告和恢復(fù),可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統(tǒng)都可以遠程通信。因此,我們的服務(wù)包括通過安全連接,電話或電子郵件,對包括經(jīng)過現(xiàn)場驗證的,實時遠程診斷和排除故障。EVG經(jīng)驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持,這得益于我們分散的全球支持機構(gòu),包括三大洲的潔凈室空間:歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). 功率器件光刻機售后服務(wù)我們可以根據(jù)您的需求提供進行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。

EVG ® 101--先進的光刻膠處理系統(tǒng)

主要應(yīng)用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工


EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機支持**/大300 mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用。通過EVG先進的OmniSpray涂層技術(shù),在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,同時提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這**地節(jié)省了用戶的成本。


EVG ® 620 NT 掩模對準系統(tǒng)(半自動/自動)

特色:EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在**小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在**小的占位面積上結(jié)合了先進的對準功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,提供了**/先進的掩模對準技術(shù)。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高/效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 所有系統(tǒng)均支持原位對準驗證的軟件,可以提高手動操作系統(tǒng)的對準精度和可重復(fù)性。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

轉(zhuǎn)速:**/高10 k rpm

加速速度:**/高10 k rpm

噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

開發(fā)模塊-分配選項

水坑顯影/噴霧顯影


EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項:

預(yù)對準:機械


系統(tǒng)控制參數(shù):

操作系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

并行處理多個作業(yè)/實時遠程訪問,診斷和故障排除


多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR


HERCULES光刻機系統(tǒng):全自動光刻跟/蹤系統(tǒng),模塊化設(shè)計,用于掩模和曝光,集成了預(yù)處理和后處理能力。EVG610光刻機有哪些品牌

EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動的基片處理,能夠?qū)崿F(xiàn)現(xiàn)場升級。河南光刻機優(yōu)惠價格

      對EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費電子產(chǎn)品的新型光學傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動的。關(guān)鍵示例包括3D感測(對于獲得更真實的虛擬和增強現(xiàn)實(VR / AR)用戶體驗至關(guān)重要),生物特征感測(對于安全應(yīng)用而言越來越關(guān)鍵),環(huán)境感測,紅外(IR)感測和相機陣列。其他應(yīng)用包括智能手機中用于高級深度感應(yīng)以改善相機自動對焦性能的其他光學傳感器以及微型顯示器。

      EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)兼IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示:“毫無疑問,晶圓級光學和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢?!坝捎谠谖覀児究偛康腘ILPhotonics能力中心支持的大量正在進行的客戶項目,我們預(yù)計在不久的將來將更***地使用該技術(shù)?!?河南光刻機優(yōu)惠價格

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