納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-04-28

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們愿意與您共同進(jìn)步。


EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù),在100毫米范圍內(nèi)。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


天津納米壓印芯片堆疊應(yīng)用EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。

納米壓印應(yīng)用二:面板尺寸的大面積納米壓印

EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展,已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3(550 mm x 650 mm)的基板上實(shí)現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。


UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)

■高精度對準(zhǔn)臺(tái)

■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動(dòng)化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)


EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因?yàn)樗?*小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心,雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料,以及適用于大眾化市場的晶圓級光學(xué)元件。(奧地利)與WINDACH(德國),2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球**的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商,***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料,在工業(yè),汽車,消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備,例如生物特征身份認(rèn)證,面部識(shí)別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心(位于EVG總部,奧地利Florian)以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器,旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備,例如分步重復(fù)母版,透鏡模制,以及EVG的SmartNIL?技術(shù),晶圓鍵合與必要的測量設(shè)備。納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。內(nèi)蒙古納米壓印價(jià)格怎么樣

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法。納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用:高度靈活的熱壓印系統(tǒng),用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能,并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。


EVG ® 510 HE特征:

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站 納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場,以敏銳的市場洞察力,實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏。