如果加熱培養(yǎng)基時(shí)采用明火方式會(huì)出現(xiàn)局部過(guò)熱情況嗎

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賽鍶鈦氪(上海)貿(mào)易有限公司2025-05-31

采用明火（如酒精燈、煤氣燈）直接加熱時(shí)，火焰與容器底部的接觸并不均勻，火焰中心區(qū)域溫度高且熱量集中，容器底部不同部位受熱差異大，直接導(dǎo)致培養(yǎng)基局部受熱過(guò)多、升溫過(guò)快，出現(xiàn)局部過(guò)熱。

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