湖南水油光刻膠工廠

來源： 發(fā)布時間：2025-04-23

  1. 全品類覆蓋
    吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商。
  2. 關(guān)鍵技術(shù)突破
    納米壓印技術(shù)：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃，支持納米級精度圖案復(fù)制，適用于第三代半導(dǎo)體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領(lǐng)域，技術(shù)指標(biāo)接近國際先進(jìn)水平。
    水性環(huán)保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn)，環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品。
    厚膜工藝能力：JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控（達(dá)數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。
吉田半導(dǎo)體公司基本概況。湖南水油光刻膠工廠

湖南水油光刻膠工廠,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝中，比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。 江蘇水性光刻膠工廠光刻膠國產(chǎn)替代的主要難點有哪些？

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光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

 半導(dǎo)體制造

? 功能：在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案，作為蝕刻或離子注入的掩膜。

? 分類：

? 正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，形成與掩膜版一致的圖案（主流，分辨率高）。

? 負(fù)性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解，形成反向圖案（用于早期工藝，耐蝕刻性強(qiáng)）。

? 技術(shù)演進(jìn)：隨制程精度提升，需匹配不同曝光波長（紫外UV、深紫外DUV、極紫外EUV），例如EUV光刻膠用于7nm以下制程。

 平板顯示（LCD/OLED）

? 彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）、彩色層（R/G/B）和保護(hù)層。

? 電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極，需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

 印刷電路板（PCB）

? 線路蝕刻：在覆銅板上涂膠，曝光顯影后保留線路區(qū)域，蝕刻去除未保護(hù)的銅箔，形成導(dǎo)電線路。

? 阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域，防止短路；字符膠用于印刷電路板標(biāo)識。

 LED與功率器件

? 芯片制造：在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu)，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠。

? Micro-LED：微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化，依賴超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）。

公司遵循國際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn)，通過 ISO9001:2008 認(rèn)證，并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例，其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求，同時具備低飛濺、高潤濕性等特點，適用于電子產(chǎn)品組裝。此外，公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化實驗室，配備先進(jìn)檢測設(shè)備，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際同類水平。

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面，不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品，滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類，兼具耐潮性與易操作性，廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造。
吉田市場定位與未來布局。

湖南水油光刻膠工廠,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿，耐高溫達(dá) 250°C，長期可靠性高，粘接強(qiáng)度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝，如半導(dǎo)體器件制造。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。
  • 水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應(yīng)用場景。


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產(chǎn)品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線。例如：

? 芯片光刻膠：覆蓋i線、g線光刻膠，適用于6英寸、8英寸晶圓制造。

? 納米壓印光刻膠：用于MEMS、光學(xué)器件等領(lǐng)域，替代傳統(tǒng)光刻工藝。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠，計劃2025年啟動研發(fā)，目標(biāo)進(jìn)入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應(yīng)鏈。

質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢：嚴(yán)格品控與自動化生產(chǎn)

 ISO認(rèn)證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認(rèn)證，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進(jìn)口高質(zhì)量材料，確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標(biāo)：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。

 自動化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達(dá)2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。

湖南水油光刻膠工廠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司匯集了大量的優(yōu)秀人才，集企業(yè)奇思，創(chuàng)經(jīng)濟(jì)奇跡，一群有夢想有朝氣的團(tuán)隊不斷在前進(jìn)的道路上開創(chuàng)新天地，繪畫新藍(lán)圖，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的信譽(yù)，信奉著“爭取每一個客戶不容易，失去每一個用戶很簡單”的理念，市場是企業(yè)的方向，質(zhì)量是企業(yè)的生命，在公司有效方針的領(lǐng)導(dǎo)下，全體上下，團(tuán)結(jié)一致，共同進(jìn)退，**協(xié)力把各方面工作做得更好，努力開創(chuàng)工作的新局面，公司的新高度，未來吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起奔向更美好的未來，即使現(xiàn)在有一點小小的成績，也不足以驕傲，過去的種種都已成為昨日我們只有總結(jié)經(jīng)驗，才能繼續(xù)上路，讓我們一起點燃新的希望，放飛新的夢想！

標(biāo)簽： 錫片 光刻膠