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用于降低來(lái)自激光源的斑點(diǎn)噪聲的方法1100開(kāi)始于操作1102，在操作1102從***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射輻射。輻射可以包括可見(jiàn)光或紅外輻射。輻射可以具有大約935nm到大約945nm之間的峰值波長(zhǎng)。根據(jù)實(shí)施例，***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)中的每個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)具有相同的孔徑寬度，使得從***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射在對(duì)物體進(jìn)行照射時(shí)產(chǎn)生***斑點(diǎn)圖案。從***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射包括部分地取決于孔徑寬度的***數(shù)目的橫向模式。接著，在操作1104，從第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射輻射。第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)可以被布置在與***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)相同的襯底上。輻射可以包括可見(jiàn)光或紅外輻射。輻射可以具有大約935nm到大約945nm之間的峰值波長(zhǎng)。根據(jù)實(shí)施例，第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)中的每個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)的孔徑寬度的相同孔徑寬度，使得從第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射在對(duì)物體進(jìn)行照射時(shí)產(chǎn)生第二斑點(diǎn)圖案。從第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射包括部分地取決于孔徑寬度第二數(shù)目的橫向模式。第二數(shù)目的橫向模式不同于***數(shù)目的橫向模式。例如，從***多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射包括兩個(gè)或更多個(gè)橫向模式，而從具有較小孔徑寬度的第二多個(gè)vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射的輻射*包括單個(gè)橫向模式。小菲涅爾透鏡常見(jiàn)問(wèn)題有哪些？天津微型紅外透鏡銷售

因此使用詞語(yǔ)“頂”并不將該層限制到任何具體的空間或幾何關(guān)系。本文描述的任意vcsel結(jié)構(gòu)可以包括用于操控光輸出的一個(gè)或多個(gè)元原子800。應(yīng)該理解的是，為了清楚起見(jiàn)*示出了單個(gè)元原子，但是任意數(shù)目的元原子可以被圖案化在頂層802上。盡管在本實(shí)施例中示出了圓柱形狀，但是任意形狀可以用于元原子800。元原子800可以具有基于來(lái)自vcsel的發(fā)射光的峰值波長(zhǎng)的直徑。例如，元原子800可以具有范圍在λ/10到λ/5之間的總直徑。類似地，元原子800的總厚度取決于來(lái)自vcsel的發(fā)射光的峰值波長(zhǎng)。例如，元原子800可以具有大約λ/2的厚度。芯材804可以是具有相對(duì)較低的折射率但是高沉積速率的材料，因此提高了制造元原子800時(shí)的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化學(xué)氣相沉積(cvd)或物***相沉積(pvd)技術(shù)沉積。隨后可以使用標(biāo)準(zhǔn)等離子體蝕刻工藝對(duì)所沉積的氮化硅層進(jìn)行蝕刻，以形成每個(gè)元原子800的芯材804。殼材806可以是具有相對(duì)較高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，諸如氧化鈦(tio2)或硅之類的材料可被用于殼材806，并且可以通過(guò)使用原子層沉積(ald)技術(shù)來(lái)非常薄地沉積。ald允許殼材806以非常薄的厚度共形地覆蓋芯材804的外表面上。天津微型紅外透鏡銷售菲涅爾透鏡技術(shù)工廠直銷；

一個(gè)或多個(gè)***vcsel和一個(gè)或多個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射紅外輻射。示例14包括示例10至13中任一項(xiàng)的主題，其中，一個(gè)或多個(gè)***vcsel中的每個(gè)***vcsel被配置為發(fā)射具有兩個(gè)或更多個(gè)橫向模式的輻射。示例15包括示例14的主題，其中，一個(gè)或多個(gè)第二vcsel中的每個(gè)第二vcsel被配置為發(fā)射具有單個(gè)橫向模式的輻射。示例16包括示例10至15中任一項(xiàng)的主題，其中，激光源還包括在襯底的表面上的一個(gè)或多個(gè)第三垂直腔面發(fā)射激光器(vcsel)結(jié)構(gòu)，每個(gè)第三vcsel結(jié)構(gòu)具有不同于***孔徑寬度和第二孔徑寬度的第三孔徑寬度并且單獨(dú)地在襯底的表面上方延伸。示例17包括一種降低來(lái)自激光源的斑點(diǎn)噪聲的方法。該方法包括：從布置在襯底上的一個(gè)或多個(gè)***vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射具有***波長(zhǎng)的輻射；以及從布置在襯底上的一個(gè)或多個(gè)第二vcsel結(jié)構(gòu)發(fā)射具有第二波長(zhǎng)的輻射，其中，第二波長(zhǎng)不同于***波長(zhǎng)。具有***波長(zhǎng)的輻射包括***數(shù)目的橫向模式，具有第二波長(zhǎng)的輻射包括第二數(shù)目的橫向模式，第二數(shù)目的橫向模式不同于***數(shù)目的橫向模式。示例18包括示例17的主題，其中，發(fā)射具有***波長(zhǎng)的輻射包括發(fā)射紅外輻射，并且其中，發(fā)射具有第二波長(zhǎng)的輻射包括發(fā)射紅外輻射。示例19包括示例17或18的主題，其中。

并且可以在z方向上具有大約500μm到2mm之間的任意厚度。于在***多個(gè)vcsel402和第二多個(gè)vcsel404內(nèi)可以存在任意數(shù)目的vcsel結(jié)構(gòu)。應(yīng)該注意的是，所示出的尺寸不是按比例畫(huà)出的，*出于清楚的目的而提供的。例如，襯底302被示出為具有類似于vcsel402或404中的每個(gè)vcsel的厚度的厚度(z軸方向上的尺寸)。但是，襯底302可以比其他層更厚，例如，具有50μm到950μm的厚度或者任何其他適當(dāng)厚度，如根據(jù)本公開(kāi)將明白的。根據(jù)實(shí)施例，***多個(gè)vcsel402中的每個(gè)vcsel的孔徑寬度(d1，類似于直徑)不同于第二多個(gè)vcsel404中的每個(gè)vcsel的孔徑寬度(d2)。通過(guò)改變孔徑寬度，橫向激光模式的數(shù)目也隨著主導(dǎo)的橫向激光模式的峰值波長(zhǎng)一起改變。換言之，具有相同孔徑寬度的每組vcsel產(chǎn)生它們自己的斑點(diǎn)圖案，因?yàn)榘唿c(diǎn)圖案取決于照明光的波長(zhǎng)。在圖4所示的示例中，***多個(gè)vcsel402將產(chǎn)生***斑點(diǎn)圖案，而第二多個(gè)vcsel404將產(chǎn)生不同的第二斑點(diǎn)圖案。斑點(diǎn)減少基于對(duì)檢測(cè)器的空間和時(shí)間分辨率內(nèi)的n個(gè)**斑點(diǎn)配置進(jìn)行平均。例如，在所有n個(gè)**斑點(diǎn)配置具有相等的平均強(qiáng)度的情況下，斑點(diǎn)噪聲被減少因子由于斑點(diǎn)圖案取決于照明光的波長(zhǎng)，所以在由該表面創(chuàng)建的平均相對(duì)相移≥2π的情況下。太陽(yáng)能聚光菲涅爾透鏡哪里好。

并且可以被用來(lái)重建物體104的3d表示。發(fā)射的輻射106和接收的輻射108可以是具有在大約400nm到大約700nm的范圍中的波長(zhǎng)的可見(jiàn)光。在另一示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108包括具有在大約700nm到大約1400nm的范圍中的波長(zhǎng)的近紅外輻射。在一個(gè)示例中，發(fā)射的輻射106和接收的輻射108均包括在大約935nm到大約945nm范圍中的波長(zhǎng)。圖2示出了根據(jù)實(shí)施例的光投影儀系統(tǒng)102的各種組件。光投影儀系統(tǒng)102包括光源202、透鏡204、檢測(cè)器206、深度確定電路208、源驅(qū)動(dòng)器電路210、以及處理器212。光源202可以被設(shè)計(jì)為生成輻射106并向物體發(fā)射輻射106。光源202可以是用于生成輻射106的包括一個(gè)或多個(gè)激光二極管或激光腔的激光源。根據(jù)實(shí)施例，激光源202包括用于生成輻射106的多個(gè)vcsel。多個(gè)vcsel可以被布置在諸如硅或其他半導(dǎo)體襯底之類的襯底上，如將參考圖3更詳細(xì)地描述的。透鏡204可以表示用于收集接收輻射108并且向檢測(cè)器206引導(dǎo)接收的輻射的任意數(shù)目的透鏡元件，如根據(jù)本公開(kāi)將明白的。檢測(cè)器206接收輻射108，并且將接收的輻射轉(zhuǎn)換為發(fā)送給深度確定電路208的電信號(hào)。檢測(cè)器206可以是電荷耦合裝置(ccd)或者可以使用互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)陣列來(lái)收集輻射。菲涅爾透鏡生產(chǎn)廠家哪里有賣的？福建制造紅外透鏡定做價(jià)

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本申請(qǐng)大體涉及成像領(lǐng)域，具體地涉及高計(jì)算效率的結(jié)構(gòu)化光成像系統(tǒng)。背景技術(shù)：創(chuàng)建3d圖像的一種途徑被稱為結(jié)構(gòu)化光照明(sli)技術(shù)。在sli技術(shù)中，光圖案被投射到3d物體表面上。sli系統(tǒng)包括相機(jī)和投影儀(照明器)。3d物體被放置在與投影儀和相機(jī)相距預(yù)定距離的參考平面上。在使用中，投影儀將結(jié)構(gòu)化光圖案投射到3d物體表面上。結(jié)構(gòu)化光圖案可以是一系列條紋線或網(wǎng)格或任何其他圖案。當(dāng)結(jié)構(gòu)化光圖案被投射到3d物體表面上時(shí)，其被3d物體表面扭曲。相機(jī)捕捉在結(jié)構(gòu)化光圖案中具有的扭曲的3d物體表面的圖像。然后，圖像被存儲(chǔ)在圖像文件中，以供圖像處理設(shè)備處理。在一些情況下，多個(gè)結(jié)構(gòu)化光圖案被投影儀(照明器)投射到3d物體表面上，并且具有結(jié)構(gòu)化光圖案的3d物體的多個(gè)圖像被相機(jī)捕捉。在圖像文件的處理期間，對(duì)結(jié)構(gòu)化光圖案中的扭曲進(jìn)行分析，并且執(zhí)行計(jì)算以確定3d物體表面上的各個(gè)點(diǎn)相對(duì)于參考表面的參考測(cè)量結(jié)果。這種圖像處理使用標(biāo)準(zhǔn)測(cè)距或三角測(cè)量方法。相機(jī)和投影圖案之間的三角測(cè)量角導(dǎo)致與表面的深度直接相關(guān)的扭曲。一旦這些測(cè)距技術(shù)被用來(lái)確定3d物體表面上的多個(gè)點(diǎn)的位置，則3d物體的3d數(shù)據(jù)表示即可被創(chuàng)建。3d物體的數(shù)字再造在包括圖像識(shí)別(例如。天津微型紅外透鏡銷售

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