2PP灰度光刻3D光刻

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點在于：這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。，灰度光刻可以明顯縮短制造時間，提高生產(chǎn)效率。2PP灰度光刻3D光刻

傳感器對可控技術(shù)的重要性，在眾多領(lǐng)域都是顯而易見的，無論是從簡單的家用電器，還是到可穿戴設(shè)備，甚至到航空應用，只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應該具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等優(yōu)點。光纖端面的微型傳感器在這個方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小，可以輕松多路復用，并且不需要額外的外部能源供應。對于這些基于光纖的傳感器的加工，雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實上，任何設(shè)計模型都能在微觀尺寸上被實現(xiàn)。然而，大多數(shù)設(shè)計都是靜態(tài)的，打印出來的部件在被加工出來后不能進行進一步的活動。江蘇2GL灰度光刻無掩膜激光直寫雙光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。

Nanoscribe成立于2007年，憑借著爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長成為了現(xiàn)在世界公認的微納米加工技術(shù)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，并于2017年在上海成立分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。公司主要產(chǎn)品有基于雙光子聚合技術(shù)（Two-PhotonPolymerization）并擁有多項國際專項的雙光子微納3D打印系統(tǒng)PhotonicProfessionalGT2。全球頭一臺工業(yè)級雙光子灰度光刻（2GL®)微納打印設(shè)備QuantumX受到普遍關(guān)注并被眾多高學府和高科技單位所采用，例如哈佛大學，牛津大學等出名的院校，華為公司等。可應用于微納機器人，再生醫(yī)學工程，微納光學，力學超材料等不同領(lǐng)域。

雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為衍射光學元件(DOEs)，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。.結(jié)合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序，只需幾個步驟就能實現(xiàn)完:美的具有亞微米形狀精度的結(jié)構(gòu)打印，適用于廣泛的應用場景和公共平臺用戶的理想選擇Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統(tǒng)。德國工業(yè)級灰度光刻無掩光刻

與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢。2PP灰度光刻3D光刻

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。2PP灰度光刻3D光刻