湖南微納米無掩膜光刻三維光刻

借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達到上限的微納3D打印機。該設備將雙光子聚合的極高精度技術特點與跨尺度的微觀3D打印完美結合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用。我們的客戶成功將微納光學結構直接打印到光子組件上從而實現從邊緣到表面的全方面耦合。無掩膜光刻技術采用數字光刻的方式，無需制作實體掩膜版。湖南微納米無掩膜光刻三維光刻

作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展湖南微納米無掩膜光刻三維光刻無掩膜光刻技術以其高精度、高效率、低成本、高靈活性和廣泛的應用范圍等優(yōu)勢特點。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產母版工具。

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。無掩膜光刻技術是一種先進的微納加工技術。

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結合軟光刻技術做后續(xù)復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內3D微納加工技術直接制作復雜結構噴絲頭。這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。全新Quantum X shape是Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產品系列的第二臺設備。北京德國無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解無掩膜光刻技術相關信息。湖南微納米無掩膜光刻三維光刻

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現高精度增材制造，以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調制速率動態(tài)調整激光功率。湖南微納米無掩膜光刻三維光刻