基于雙光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫(xiě)入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何,在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過(guò)其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)?!半m然QuantumX已經(jīng)通過(guò)雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?!?。 更多德國(guó)雙光子灰度光刻技術(shù)內(nèi)容,敬請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。浙江高分辨率灰度光刻設(shè)備
QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫(xiě)系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型,同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。德國(guó)超高速灰度光刻系統(tǒng)更多灰度光刻技術(shù)詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。
微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見(jiàn)組件,具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上,會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中,為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差,只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來(lái)進(jìn)行校正,從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來(lái)加工微凹透鏡陣列即可通過(guò)設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù)。
經(jīng)過(guò)10年的市場(chǎng)銷售,Nanoscribe已幫助了許多科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域的開(kāi)拓者和創(chuàng)新的帶領(lǐng)者,例如,為ICT生產(chǎn)DOE,微光學(xué)以及光子引線鍵合。他們的新IP-Visio在30個(gè)國(guó)家/地區(qū)擁有1,000多個(gè)用戶,受到業(yè)界的強(qiáng)烈關(guān)注。2019年6月該公司推出了一款新型的機(jī)器QuantumX,使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作?!?。 如需詳細(xì)了解雙光子聚合(2PP)和雙光子灰度光刻(2GL ?)的內(nèi)容請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。德國(guó)超高速灰度光刻系統(tǒng)
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目前,PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)等產(chǎn)品的產(chǎn)量居世界前列,實(shí)驗(yàn)分析儀器等中產(chǎn)品的市場(chǎng)占比不斷上升,行業(yè)技術(shù)上總體已達(dá)到的中等國(guó)際水平,少數(shù)產(chǎn)品接近或達(dá)到當(dāng)前較高國(guó)際水平。由于在重大工程、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證、基礎(chǔ)科研中,儀器儀表都是必不可少的基礎(chǔ)技術(shù)和裝備重點(diǎn),除傳統(tǒng)領(lǐng)域的需求外,新興的智能制造、離散自動(dòng)化、生命科學(xué)、新能源、海洋工程、軌道交通等領(lǐng)域也會(huì)產(chǎn)生巨大需求。盡管在我國(guó)相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下,我國(guó)儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從貿(mào)易整體上看,我國(guó)的儀器儀表行業(yè)還是落后于國(guó)際水平的。重點(diǎn)技術(shù)缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴(yán)重依賴進(jìn)口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴(yán)重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問(wèn)題凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來(lái)了嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。儀器儀表是用以檢測(cè)、測(cè)量、觀察、計(jì)算各種物理量、物質(zhì)成分、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備。真空檢漏儀、壓力表、測(cè)長(zhǎng)儀、顯微鏡、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來(lái),得益于機(jī)械、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營(yíng)狀況的好轉(zhuǎn),我國(guó)儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好。浙江高分辨率灰度光刻設(shè)備
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