為了探索待測(cè)物微納米表面形貌,探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而,由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝,在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展,這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變,以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí),并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,以及普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。四川雙光子Nanoscribe微流道
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過(guò)2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 作為基于雙光子聚合技術(shù)( 2PP) 的微納加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,Nanoscribe 在全球 30 多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?;?PP 微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。 “我們非常期待加入 CELLINK 集團(tuán),共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”Nanoscribe CEO Martin Hermatschweiler 說(shuō)道。海南高分辨率Nanoscribe技術(shù)現(xiàn)在Nanoscribe客戶遍布全球30個(gè)國(guó)家,超過(guò)1500名用戶。
Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國(guó)卡爾蔡司公司的支持,經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng),已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,一直致力于推動(dòng)諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個(gè)國(guó)家,超過(guò)1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國(guó)理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強(qiáng)中國(guó)及亞太地區(qū)的銷(xiāo)售推廣和售后服務(wù)范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨(dú)資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司。自Nanoscribe進(jìn)軍中國(guó)市場(chǎng)以來(lái),已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,例如:北京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),南京大學(xué)等等。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL ®)系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,結(jié)合Nanoscribe的3D微加工技術(shù)可直接在光子芯片上進(jìn)行3D打印制作。
光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,PIC) 與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權(quán)衡對(duì)準(zhǔn)、效率和寬帶方面的種種要求。針對(duì)這些困難,科學(xué)家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過(guò)Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實(shí)現(xiàn)。更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。北京微納米Nanoscribe上海
更多有關(guān)3D打印的技術(shù)和產(chǎn)品咨詢 ,歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國(guó)分公司 - 納糯三維科技(上海)有限公司。四川雙光子Nanoscribe微流道
Nanoscribe稱,Quantum X是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photon grayscale lithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如,可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行,以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱,Quantum X在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,具有可變的特征高度。離散和精確的步驟,以及本質(zhì)上為準(zhǔn)連續(xù)的形貌,可以在一個(gè)步驟中完成打印,而不需要多步光刻或多塊掩模制造。四川雙光子Nanoscribe微流道
納糯三維科技(上海)有限公司位于中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加楓路26號(hào)108室。公司業(yè)務(wù)涵蓋PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫(xiě)系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng)等,價(jià)格合理,品質(zhì)有保證。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),打造儀器儀表良好品牌。納糯三維憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。