無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,可用于創(chuàng)建亞微米級特征,并促進電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造,例如以下領(lǐng)域:醫(yī)療(包括微流體)、半導體、電子、生物技術(shù)和生命科學、先進材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預計在 2022 年達到 3.3606 億美元,預計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,復合年增長率為 6.90%。由于對 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,預計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長。微流體3D成型:復雜流道快速曝光,助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統(tǒng)研發(fā)。黑龍江德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
細胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu),傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,難以滿足個性化需求。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導入,某干細胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,適配不同分化階段的細胞黏附需求。實驗顯示,使用該支架的神經(jīng)細胞軸突生長速度提升 30%,為神經(jīng)再生機制研究提供了高效工具,相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產(chǎn)。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。天津德國桌面無掩模光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米微型傳感器量產(chǎn):80 μm開環(huán)諧振器加工能力,推動工業(yè)級MEMS傳感器升級。
針對碳化硅(SiC)功率模塊的柵極刻蝕難題,Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制,較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設(shè)備,將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,開關(guān)損耗減少 20%,推動車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結(jié)構(gòu),使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周,助力我國在第三代半導體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉(zhuǎn)染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術(shù)。
在航空航天科研中,某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),助力團隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機制造的微型齒輪,齒距精度達到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性?;诖耍蒲袌F隊成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品,為未來微型飛行器在復雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ)。掩模制備時間歸零,科研人員耗時減少 60%,項目交付周期縮短 50%。吉林光刻機MAX層厚可達到10微米
光束引擎高速掃描:SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,壓電驅(qū)動提升掃描速度。黑龍江德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
Polos光刻機與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術(shù)結(jié)合,可定制激光輪廓以優(yōu)化能量分布,減少材料蒸發(fā)和飛濺,提升金屬3D打印效率7。這種跨領(lǐng)域技術(shù)融合為工業(yè)級微納制造(如光學元件封裝)提供新思路,推動智能制造向高精度、低能耗方向發(fā)展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠,通過優(yōu)化曝光參數(shù)(如能量密度與聚焦深度)實現(xiàn)不同材料的高質(zhì)量加工。例如,使用AZ5214E時,可調(diào)節(jié)光束強度以減少側(cè)壁粗糙度,提升微結(jié)構(gòu)的功能性。這一特性使其在生物相容性器件(如仿生傳感器)中表現(xiàn)outstanding26。黑龍江德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸