根據(jù)其鍍膜工藝的不同，氧化鈮靶材分為平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達(dá)到。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細(xì)且均勻,成形性能好;旋轉(zhuǎn)靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動(dòng)性及嚴(yán)格的粒度范圍。旋轉(zhuǎn)靶材是近些年新發(fā)展的一種靶材,與...

陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點(diǎn)：1.導(dǎo)電性:金屬靶材都具有導(dǎo)電性,可以適應(yīng)各種不同電源類型機(jī)臺(tái),而陶瓷靶材因?yàn)榇蟛糠植痪邆鋵?dǎo)電性,只能使用射頻電源.2.導(dǎo)熱性:金屬靶材導(dǎo)熱性能好,濺射時(shí)可以大功率運(yùn)行.陶瓷靶材導(dǎo)熱性較差,濺射時(shí)功率不宜過(guò)高.復(fù)合性:3.金屬靶材...

靶材作為半導(dǎo)體、顯示面板、光伏電池等的關(guān)鍵原料，預(yù)計(jì)2025年全球市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)333億美元，從下游來(lái)看，能夠認(rèn)為半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)、顯示面板靶材市場(chǎng)以及光伏面板靶材市場(chǎng)未來(lái)成長(zhǎng)空間較大，國(guó)產(chǎn)替代需求強(qiáng)烈。而HJT電池靶材有望快速實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代國(guó)產(chǎn)靶材廠商有望在HJT...

FPD和導(dǎo)電玻璃的尺寸都相當(dāng)火，導(dǎo)電玻璃的寬度甚至可以達(dá)到3133mm，為了提高靶材的利用率，開(kāi)發(fā)了不同形狀的ITO靶材，如圓柱形等。2000年，國(guó)家發(fā)展計(jì)劃委員會(huì)、科學(xué)技術(shù)部在《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的信息產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)領(lǐng)域指南》中，ITO大型靶材也列入其中。在儲(chǔ)存技術(shù)方面...

在被濺射的靶極（陰極）與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子...

ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中，其主要應(yīng)用分為：平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)、電致有機(jī)發(fā)光平面顯示器(OELD)、場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè)，如薄...

用更通俗的比喻，想象你在用彩彈槍射擊一個(gè)涂有多種顏色油漆的墻壁，墻壁上的油漆顆粒被擊中后，會(huì)飛濺到對(duì)面的一張白紙上，**終在白紙上形成了一個(gè)彩色的圖案。在這個(gè)比喻中，涂有油漆的墻壁就像是靶材，白紙就是需要被鍍上薄膜的材料，而彩彈***射出的彩彈則類似于高能粒子...

靶材的選擇和使用注意事項(xiàng)選擇靶材時(shí)的考慮因素：物理和化學(xué)屬性：包括靶材的熔點(diǎn)、導(dǎo)電性、化學(xué)穩(wěn)定性等。例如，高溫應(yīng)用通常需要選擇高熔點(diǎn)、化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)的陶瓷靶材。成本效益：在保證性能的前提下，考慮靶材的經(jīng)濟(jì)性是重要的。一些高性能材料可能成本較高，需要平衡性能和成本...

（3）濺射鍍膜：在濺射鍍膜過(guò)程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng)，濺射機(jī)臺(tái)**性強(qiáng)、精密度高，市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷。（4）終端應(yīng)用：1）半導(dǎo)體芯片：?jiǎn)卧骷械慕橘|(zhì)層、導(dǎo)體層與保護(hù)層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2）平板顯示器件：為了保證大面...

其常見(jiàn)的靶材及其應(yīng)用：如碲化銦(IndiumSelenide，InSe)靶材：碲化銦是一種半導(dǎo)體材料，具有優(yōu)異的光電性能和可調(diào)諧的能帶結(jié)構(gòu)。它被廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、光電二極管、光伏探測(cè)器、紅外光電探測(cè)器等器件的制備中。如碲化鎘(CadmiumSelenide...

用更通俗的比喻，想象你在用彩彈槍射擊一個(gè)涂有多種顏色油漆的墻壁，墻壁上的油漆顆粒被擊中后，會(huì)飛濺到對(duì)面的一張白紙上，**終在白紙上形成了一個(gè)彩色的圖案。在這個(gè)比喻中，涂有油漆的墻壁就像是靶材，白紙就是需要被鍍上薄膜的材料，而彩彈***射出的彩彈則類似于高能粒子...

a.選擇適合的鎢靶材規(guī)格針對(duì)不同的應(yīng)用領(lǐng)域和設(shè)備，選擇合適規(guī)格和尺寸的鎢靶材至關(guān)重要。例如，在半導(dǎo)體制造中，應(yīng)選擇高純度、精細(xì)晶體結(jié)構(gòu)的靶材；而在X射線生成應(yīng)用中，則可能需要更大尺寸和特定形狀的靶材。b.控制使用環(huán)境鎢靶材的性能在很大程度上取決于使用環(huán)境。維持...

適宜的存儲(chǔ)環(huán)境：應(yīng)將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風(fēng)良好的環(huán)境中。避免高濕度和極端溫度，因?yàn)檫@些條件可能導(dǎo)致材料氧化或其他化學(xué)變化。防止污染：存儲(chǔ)鎳靶材時(shí)，應(yīng)避免與其他化學(xué)品或污染源直接接觸，以防止表面污染或化學(xué)反應(yīng)。防塵措施：在存儲(chǔ)和搬運(yùn)過(guò)程中，需保持環(huán)境的潔凈...

碳化硅靶材的基本特性中的物理特性：高密度：碳化硅靶材具有高密度，這意味著它能提供較高的靶材利用率，降**造過(guò)程中的材料浪費(fèi)。極高硬度：硬度是材料抵抗形變的能力，碳化硅的摩氏硬度高達(dá)9-10，僅次于鉆石。這一特性使其能夠耐受**度的機(jī)械壓力和磨損，保證了制造過(guò)程...

研究直流磁控反應(yīng)濺射ITO膜過(guò)程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測(cè)氧儀等手段對(duì)毒化發(fā)生的機(jī)理進(jìn)行分析,并對(duì)若干誘導(dǎo)因素進(jìn)行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導(dǎo)毒化發(fā)生.IT...

眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。如Ic制造商．近段時(shí)間致力于低電阻率銅布線的開(kāi)發(fā)，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年將大幅度取代原來(lái)的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開(kāi)發(fā)將刻...

FPD和導(dǎo)電玻璃的尺寸都相當(dāng)火，導(dǎo)電玻璃的寬度甚至可以達(dá)到3133mm，為了提高靶材的利用率，開(kāi)發(fā)了不同形狀的ITO靶材，如圓柱形等。2000年，國(guó)家發(fā)展計(jì)劃委員會(huì)、科學(xué)技術(shù)部在《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的信息產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)領(lǐng)域指南》中，ITO大型靶材也列入其中。在儲(chǔ)存技術(shù)方面...

半導(dǎo)體制造中的硅靶材應(yīng)用：在制造高性能微處理器和存儲(chǔ)器芯片的過(guò)程中，硅靶材起著至關(guān)重要的作用。制造這些微電子器件時(shí)，需要極高的精度和純度。硅靶材通過(guò)精確控制摻雜過(guò)程，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)芯片性能的精細(xì)調(diào)整。硅靶材的質(zhì)量特性如高純度和均一性，保證了最終產(chǎn)品的性能和可靠性，...

適宜的存儲(chǔ)環(huán)境：應(yīng)將鎳靶材存放在干燥、陰涼、通風(fēng)良好的環(huán)境中。避免高濕度和極端溫度，因?yàn)檫@些條件可能導(dǎo)致材料氧化或其他化學(xué)變化。防止污染：存儲(chǔ)鎳靶材時(shí)，應(yīng)避免與其他化學(xué)品或污染源直接接觸，以防止表面污染或化學(xué)反應(yīng)。防塵措施：在存儲(chǔ)和搬運(yùn)過(guò)程中，需保持環(huán)境的潔凈...

FPD和導(dǎo)電玻璃的尺寸都相當(dāng)火，導(dǎo)電玻璃的寬度甚至可以達(dá)到3133mm，為了提高靶材的利用率，開(kāi)發(fā)了不同形狀的ITO靶材，如圓柱形等。2000年，國(guó)家發(fā)展計(jì)劃委員會(huì)、科學(xué)技術(shù)部在《當(dāng)前優(yōu)先發(fā)展的信息產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)領(lǐng)域指南》中，ITO大型靶材也列入其中。在儲(chǔ)存技術(shù)方面...

7.配套設(shè)備與耗材銅背板綁定： 銅背板與鎳靶材結(jié)合使用，用于提高熱傳導(dǎo)效率。銅具有高熱導(dǎo)率，有助于在濺射過(guò)程中快速散熱，防止靶材過(guò)熱損壞。粘接劑： 使用**粘接劑（如銀膠）將鎳靶材與銅背板或其他支撐結(jié)構(gòu)緊密粘合。這種粘接劑需具有良好的熱導(dǎo)性和電導(dǎo)性。濺射設(shè)備：...

靶材是半導(dǎo)體薄膜沉積的關(guān)鍵材料，是一種用于濺射沉積的高純度材料。根據(jù)半導(dǎo)體材料的種類，靶材可分為多種類型，包括硅（Si）、氮化硅（Si3N4）、氧化物（如二氧化硅、三氧化二鋁等）、化合物半導(dǎo)體（如砷化鎵GaAs、氮化鋁AlN等）以及其他材料。這些靶材都是經(jīng)過(guò)嚴(yán)...

研究直流磁控反應(yīng)濺射ITO膜過(guò)程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測(cè)氧儀等手段對(duì)毒化發(fā)生的機(jī)理進(jìn)行分析,并對(duì)若干誘導(dǎo)因素進(jìn)行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導(dǎo)毒化發(fā)生.IT...

靶材，就像它的名字暗示的那樣，可以想象成射箭時(shí)箭靶的那塊區(qū)域，只不過(guò)在我們討論的科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域里，這個(gè)“箭靶”被用于非常特殊的目的。在物理、材料科學(xué)或者電子制造等行業(yè)中，靶材是一塊通常由金屬或其他材料制成的堅(jiān)固板材，它被用作物***相沉積（PVD）等技術(shù)中的一...

靶材是制備薄膜的主要材料之一，主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等，對(duì)材料純度和穩(wěn)定性要求高。濺射靶材的工作原理：濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過(guò)加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，...

鍍膜的主要工藝有物***相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）。（1）PVD技術(shù)是目前主流鍍膜方法，其中的濺射工藝在半導(dǎo)體、顯示面板應(yīng)用***。PVD技術(shù)分為真空蒸鍍法、濺鍍法和離子鍍法。三種方法各有優(yōu)劣勢(shì)：真空蒸鍍法對(duì)于基板材質(zhì)沒(méi)有限制；濺鍍法薄膜的性質(zhì)、...

六、配套設(shè)備與耗材：1.銅背板：-銅背板可以提供優(yōu)良的熱導(dǎo)性，幫助ITO靶材在濺射過(guò)程中迅速散熱，防止靶材過(guò)熱導(dǎo)致的性能下降。-使用銅背板還有助于提升靶材的機(jī)械支撐，確保濺射過(guò)程中靶材的穩(wěn)定。2.綁定材料：-靶材與銅背板之間的綁定材料必須具備良好的導(dǎo)熱性能和機(jī)...

以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為***，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的...

靶材是半導(dǎo)體薄膜沉積的關(guān)鍵材料，是一種用于濺射沉積的高純度材料。根據(jù)半導(dǎo)體材料的種類，靶材可分為多種類型，包括硅（Si）、氮化硅（Si3N4）、氧化物（如二氧化硅、三氧化二鋁等）、化合物半導(dǎo)體（如砷化鎵GaAs、氮化鋁AlN等）以及其他材料。這些靶材都是經(jīng)過(guò)嚴(yán)...

靶材的選擇和使用注意事項(xiàng)選擇靶材時(shí)的考慮因素：物理和化學(xué)屬性：包括靶材的熔點(diǎn)、導(dǎo)電性、化學(xué)穩(wěn)定性等。例如，高溫應(yīng)用通常需要選擇高熔點(diǎn)、化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)的陶瓷靶材。成本效益：在保證性能的前提下，考慮靶材的經(jīng)濟(jì)性是重要的。一些高性能材料可能成本較高，需要平衡性能和成本...