化學科研試劑中的儀器分析專門試劑下分色譜試劑、核磁共振儀用試劑、紫外及紅外光譜試劑等7亞類。有機合成研究用試劑下分基本有機反應試劑、保護基因試劑、相轉移催化劑等8亞類。臨床診斷試劑下分一般試劑、生化檢驗用試劑、放射免疫檢驗用試劑等7亞類。生化試劑下分生物堿、氨基酸及其衍生物等13亞類。新型基礎材料和精細化學品下分電子工業(yè)用化學品、光學工業(yè)用化學品、醫(yī)藥工業(yè)用化學品等7亞類。此外，化學科研試劑還可按純度分為高純試劑、優(yōu)級試劑、分析純試劑的化學純試劑；或按試劑儲存要求而分為容易變質試劑、化學危險性試劑和一般保管試劑?；瘜W科研試劑在目前的應用越來越多。Stearic acid PEG amine
化學科研試劑中的分解指一種物質變?yōu)閹追N物質的反應。分解反應可因溫度升高而加劇。二元化合物的熱穩(wěn)定性鍵能有關例如碘化物比溴化物不穩(wěn)定。有些含氧酸鹽如硝酸鹽、氯酸鹽和高錳鹽在加熱時可放出氧而對易燃物發(fā)生危險，因此這些試劑應該與易燃物隔離貯藏。有的分解反應還可以因光照而加劇，如銀、高汞和亞汞的化合物。樹脂類試劑則由于冷凍或干燥破壞了其結構，失去其交換功能。分解反應是試劑變質的常見的原因之一。失活指具有活性的生化試劑變?yōu)闆]有活性的物質。例如酶試劑，這類試劑可因貯藏溫度過高或貯藏時間過長而失去活性。發(fā)霉指化學科研試劑中霉菌繁殖的現(xiàn)象。許多生化試劑如碳水化合物、酶類和蛋白質類試劑經及若干含氮、硫的無機試劑在一定濕度和溫度時，暴露在空氣中皆可發(fā)霉而變質。3,4-二氫-2H-1,4-苯并惡嗪-2-基甲醇 CAS：82756-74-9對于一般的化學科研試劑，如元機鹽，應存放有序地放在試劑柜內。
化學科研試劑中的強氧化劑類試劑是過氧化物或含氧酸及其鹽，在適當條件下會發(fā)生炸裂，并可與有機物、鎂、鋁、鋅粉、硫等易燃固體形成炸裂混合物。這類物質中有的能與水起劇烈反應，如過氧化物遇水有發(fā)生炸裂的危險。屬于此類的有硝酸銨、硝酸鉀、硝酸鈉、高氯酸、高氯酸鉀、高氯酸鈉、高氯酸鎂或鋇、鉻酸酐、重鉻酸銨、重鉻酸鉀及其他鉻酸鹽、高錳酸鉀及其他高錳酸鹽、氯酸鉀、氯酸鋇、過硫酸銨及其他過硫酸鹽、過氧化鈉、過氧化鉀、過氧化鋇、過氧化二苯甲酰、過乙酸等。存放處要求陰涼通風，較高溫度不得超過30攝氏度。要與酸類以及木屑、炭粉、硫化物、糖類等易燃物、可燃物或易被氧化物(即還原性物質)等隔離，堆垛不宜過高過大，注意散熱。
盛裝化學科研試劑的容器與能使之變質的環(huán)境盡可能隔斷，即采用密封的容器，如緊密蓋閉的鐵桶、密閉的金屬容器和容量不大于1升的緊密蓋閉的玻璃瓶。密閉貯藏適用于具有揮發(fā)、升華、潮解、風化、析晶、水解、氧化、還原、霉變等性質的試劑，是貯藏試劑較常用的方法。試劑瓶視察閉程度和試劑腐蝕性不同用磨口玻璃塞（適用于硝酸、鹽酸、硫酸和液溴等）或具有塑料襯墊的螺旋帽蓋。為使封口嚴密，可采用膠套的配制方法：將膠套混合液（硝化纖維：膠：蓖麻油：C4H10O：乙醇=13：0.5：36：50）倒入瓶塞模中，數秒后即形成薄膜，趁膜未干時取下泡浸于75%乙醇中備用。封口時，將合適的膠套套在已經好的瓶塞上，待其收縮后，瓶口即可密封。對于易分解產生氣體的試劑，一定不能密封，否則易發(fā)生炸裂，如過氧化氫、碳酸銨等?；瘜W科研試劑中的標準溶液主要用于滴定分析測定物質的含量。
化學科研試劑中的易燃易爆試劑在貯藏時，應當跟周圍建筑、交通要道、輸電線路摩擦等保持一定的安全距離。單層貯藏可燃性液體建筑與主要建筑物之間距離至少應在150米以上。貯量較大時防火間距應征處消防部門同意。明火系指電弧、氧炔焰、各種燃燒焰以及電爐、干燥箱、烘箱中正在工作的電熱絲等。這些都必須與易燃易爆試劑貯藏室隔離。在易燃易爆試劑貯藏室內，禁止使用油燈、蠟燭和其它明火照明。不準把火種、易燃物和容易引起火花的鐵器等物品帶入貯藏室。不得在易燃易爆試劑貯藏室內進行分桶分裝、打包、焊封等工作；嚴格禁止在易燃易爆試劑貯藏室內吸煙。閃點在25攝氏度以下的化學科研試劑，存放較高室溫不得超過30攝氏度，特別要注意遠離火源。3-癸基噻吩 CAS：65016-55-9
化學科研試劑本身就是很危險的或極易炸裂的，所以要輕拿輕放。Stearic acid PEG amine
對化學科研試劑中的高純試劑或高純元素純度或雜質含量的檢驗，一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質譜比色化學分析等方法進行測定。普通高純試劑則是指一些高純單質金屬、氧化物、金屬鹽類等，常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導體基礎材料等，金屬單質的氧化物、用來配制標準溶液和作為標準物質，該類試劑常要求含量在4N-6N之間。超凈高純試劑是集成電路（IC）制造工藝中的專門化學品，用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。光刻工藝是一種表面加工技術，在半導體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實現(xiàn)選擇性腐蝕，采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層，稱為抗蝕劑，在化學科研試劑中也比較常見。Stearic acid PEG amine