可控硅可控硅簡稱SCR，是一種大功率電器元件，也稱晶閘管。它具有體積小、效率高、壽命長等優(yōu)點。在自動控制系統(tǒng)中，可作為大功率驅動器件，實現(xiàn)用小功率控件控制大功率設備。它在交直流電機調速系統(tǒng)、調功系統(tǒng)及隨動系統(tǒng)中得到了廣泛的應用?？煽毓璺謫蜗蚩煽毓韬碗p向可控硅兩種。雙向可控硅也叫三端雙向可控硅，簡稱TRIAC。雙向可控硅在結構上相當于兩個單向可控硅反向連接，這種可控硅具有雙向導通功能。其通斷狀態(tài)由控制極G決定。在控制極G上加正脈沖（或負脈沖）可使其正向（或反向）導通。這種裝置的優(yōu)點是控制電路簡單，沒有反向耐壓問題，因此特別適合做交流無觸點開關使用。IGBTIGBT絕緣柵雙極型晶體管，是由BJT（雙極型三極管）和MOS（絕緣柵型場效應管）組成的復合全控型電壓驅動式功率半導體器件，兼有MOSFET的高輸入阻抗和GTR的低導通壓降兩方面的優(yōu)點。GTR飽和壓降低，載流密度大，但驅動電流較大；MOSFET驅動功率很小，開關速度快，但導通壓降大，載流密度小。IGBT綜合了以上兩種器件的優(yōu)點，驅動功率小而飽和壓降低。IGBT非常適合應用于直流電壓為600V及以上的變流系統(tǒng)如交流電機、變頻器、開關電源、照明電路、牽引傳動等領域。當MOSFET的溝道形成后，從P+基極注入到N-層的空穴（少子），對N-層進行電導調制。北京好的Mitsubishi三菱IGBT模塊值得推薦
igbt簡介IGBT（InsulatedGateBipolarTransistor），絕緣柵雙極型晶體管，是由BJT（雙極型三極管）和MOS（絕緣柵型場效應管）組成的復合全控型電壓驅動式功率半導體器件，兼有MOSFET的高輸入阻抗和GTR的低導通壓降兩方面的優(yōu)點。GTR飽和壓降低，載流密度大，但驅動電流較大；MOSFET驅動功率很小，開關速度快，但導通壓降大，載流密度小。IGBT綜合了以上兩種器件的優(yōu)點，驅動功率小而飽和壓降低。非常適合應用于直流電壓為600V及以上的變流系統(tǒng)如交流電機、變頻器、開關電源、照明電路、牽引傳動等領域。IGBT模塊IGBT模塊是由IGBT（絕緣柵雙極型晶體管芯片）與FWD（續(xù)流二極管芯片）通過特定的電路橋接封裝而成的模塊化半導體產品；封裝后的IGBT模塊直接應用于變頻器、UPS不間斷電源等設備上。IGBT模塊特點IGBT模塊具有節(jié)能、安裝維修方便、散熱穩(wěn)定等特點；當前市場上銷售的多為此類模塊化產品，一般所說的IGBT也指IGBT模塊；隨著節(jié)能環(huán)保等理念的推進，此類產品在市場上將越來越多見。IGBT結構上圖所示為一個N溝道增強型絕緣柵雙極晶體管結構，N+區(qū)稱為源區(qū)，附于其上的電極稱為源極（即發(fā)射極E）。N基極稱為漏區(qū)。器件的控制區(qū)為柵區(qū)，附于其上的電極稱為柵極（即門極G）。北京好的Mitsubishi三菱IGBT模塊值得推薦它與GTR的輸出特性相似．也可分為飽和區(qū)1、放大區(qū)2和擊穿特性3部分。
模塊的內部等效電路多個管芯并聯(lián)時，柵極已經加入柵極電阻，實際的等效電路如圖2所示。不同制造商的模塊，柵極電阻的阻值也不相同；不過，同一個模塊內部的柵極電阻，其阻值是相同的。圖2單管模塊內部的實際等效電路圖IGBT單管模塊通常稱為1in1模塊，前面的“1”表示內部包含一個IGBT管芯，后面的“1”表示同一個模塊塑殼之中。2.半橋模塊，2in1模塊半橋（Halfbridge）模塊也稱為2in1模塊，可直接構成半橋電路，也可以用2個半橋模塊構成全橋，3個半橋模塊也構成三相橋。因此，半橋模塊有時候也稱為橋臂（Phase-Leg）模塊。圖3是半橋模塊的內部等效。不同的制造商的接線端子名稱也有所不同，如C2E1可能會標識為E1C2，有的模塊只在等效電路圖上標識引腳編號等。圖3半橋模塊的內部等效電路半橋模塊的電流/電壓規(guī)格指的均是其中的每一個模塊單元。如1200V/400A的半橋模塊，表示其中的2個IGBT管芯的電流/電壓規(guī)格都是1200V/400A，即C1和E2之間可以耐受高2400V的瞬間直流電壓。不僅半橋模塊，所有模塊均是如此標注的。3.全橋模塊，4in1模塊全橋模塊的內部等效電路如圖4所示。圖4全橋模塊內部等效電路全橋（Fullbridge）模塊也稱為4in1模塊，用于直接構成全橋電路。
由形成于半導體襯底表面的一導電類型輕摻雜區(qū)組成。第二導電類型摻雜的阱區(qū)，形成于所述漂移區(qū)表面。在所述漂移區(qū)的底部表面形成有由第二導電類重摻雜區(qū)組成的集電區(qū)。電荷存儲層，所述電荷存儲層形成于所述漂移區(qū)的頂部區(qū)域且位于所述漂移區(qū)和所述阱區(qū)交界面的底部，所述電荷存儲層具有一導電類重摻雜；所述電荷存儲層用于阻擋第二導電類載流子從所述漂移區(qū)中進入到所述阱區(qū)中。多個溝槽，各所述溝槽穿過所述阱區(qū)和所述電荷存儲層且各所述溝槽的進入到所述漂移區(qū)中；一個所述igbt器件的單元結構中包括一個柵極結構以及形成于所述柵極結構兩側的第二屏蔽電極結構，在所述柵極結構的每一側包括至少一個所述第二屏蔽電極結構。所述柵極結構包括形成于一個對應的所述溝槽中的一屏蔽多晶硅和多晶硅柵的疊加結構，所述一屏蔽多晶硅組成一屏蔽電極結構。所述多晶硅柵位于所述一屏蔽多晶硅的頂部，所述一屏蔽多晶硅和對應的所述溝槽的底部表面和側面之間通過一屏蔽介質層隔離，所述一屏蔽多晶硅和所述多晶硅柵之間通過多晶硅間介質層隔離，所述多晶硅柵和所述溝槽的側面之間通過柵介質層隔離。所述第二屏蔽電極結構由填充于所述柵極結構兩側的所述溝槽中的第二屏蔽多晶硅組成。它與MOSFET的轉移特性相同，當柵源電壓小于開啟電壓Ugs(th)時，IGBT處于關斷狀態(tài)。
3、本發(fā)明還設置了電荷存儲層，電荷存儲層結合第二屏蔽電極結構能更好的防止集電區(qū)注入的少子進入到溝道區(qū)域中，從而能降低降低器件的飽和壓降。附圖說明下面結合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細的說明：圖1是本發(fā)明實施例一實施例igbt器件的結構示意圖；圖2是本發(fā)明實施例第二實施例igbt器件的結構示意圖；圖3a-圖3g是本發(fā)明一實施例方法各步驟中器件的結構示意圖。具體實施方式本發(fā)明實施例一實施例igbt器件：如圖1所示，是本發(fā)明實施例一實施例igbt器件的結構示意圖，本發(fā)明一實施例igbt器件包括：漂移區(qū)1，由形成于半導體襯底(未顯示)表面的一導電類型輕摻雜區(qū)組成。本發(fā)明實施例一實施例中，所述半導體襯底為硅襯底；在所述硅襯底表面形成有硅外延層，所述漂移區(qū)1直接由一導電類型輕摻雜的所述硅外延層組成，所述阱區(qū)2形成于所述漂移區(qū)1表面的所述硅外延層中。第二導電類型摻雜的阱區(qū)2，形成于所述漂移區(qū)1表面。在所述漂移區(qū)1的底部表面形成有由第二導電類重摻雜區(qū)組成的集電區(qū)9。電荷存儲層14，所述電荷存儲層14形成于所述漂移區(qū)1的頂部區(qū)域且位于所述漂移區(qū)1和所述阱區(qū)2交界面的底部，所述電荷存儲層14具有一導電類重摻雜。IGBT是將強電流、高壓應用和快速終端設備用垂直功率MOSFET的自然進化。北京好的Mitsubishi三菱IGBT模塊值得推薦
三菱的IGBT，除了電動汽車用的650V以外，都是工業(yè)等級的。北京好的Mitsubishi三菱IGBT模塊值得推薦
尾流）的降低，完全取決于關斷時電荷的密度，而密度又與幾種因素有關，如摻雜質的數(shù)量和拓撲，層次厚度和溫度。少子的衰減使集電極電流具有特征尾流波形，集電極電流引起以下問題：功耗升高；交叉導通問題，特別是在使用續(xù)流二極管的設備上，問題更加明顯。鑒于尾流與少子的重組有關，尾流的電流值應與芯片的溫度、IC和VCE密切相關的空穴移動性有密切的關系。因此，根據(jù)所達到的溫度，降低這種作用在終端設備設計上的電流的不理想效應是可行的。阻斷與閂鎖當集電極被施加一個反向電壓時，J1就會受到反向偏壓控制，耗盡層則會向N-區(qū)擴展。因過多地降低這個層面的厚度，將無法取得一個有效的阻斷能力，所以，這個機制十分重要。另一方面，如果過大地增加這個區(qū)域尺寸，就會連續(xù)地提高壓降。第二點清楚地說明了NPT器件的壓降比等效（IC和速度相同）PT器件的壓降高的原因。當柵極和發(fā)射極短接并在集電極端子施加一個正電壓時，P/NJ3結受反向電壓控制，此時，仍然是由N漂移區(qū)中的耗盡層承受外部施加的電壓。IGBT在集電極與發(fā)射極之間有一個寄生PNPN晶閘管（如圖1所示）。在特殊條件下，這種寄生器件會導通。這種現(xiàn)象會使集電極與發(fā)射極之間的電流量增加。北京好的Mitsubishi三菱IGBT模塊值得推薦