哪些是MOS管銷售價格

來源: 發(fā)布時間:2023-05-12

    對于N溝道的場效應(yīng)管其源極和漏極接在N型半導(dǎo)體上,同樣對于P溝道的場效應(yīng)管其源極和漏極則接在P型半導(dǎo)體上。我們知道一般三極管是由輸入的電流控制輸出的電流。但對于場效應(yīng)管,其輸出電流是由輸入的電壓(或稱電場)控制,可以認(rèn)為輸入電流極小或沒有輸入電流,這使得該器件有很高的輸入阻抗,同時這也是我們稱之為場效應(yīng)管的原因。為解釋MOS管工作原理圖,我們先了解一下含有一個P—N結(jié)的二極管的工作過程。如圖所示,我們知道在二極管加上正向電壓(P端接正極,N端接負(fù)極)時,二極管導(dǎo)通,其PN結(jié)有電流通過。這是因為在P型半導(dǎo)體端為正電壓時,N型半導(dǎo)體內(nèi)的負(fù)電子被吸引而涌向加有正電壓的P型半導(dǎo)體端,而P型半導(dǎo)體端內(nèi)的正電子則朝N型半導(dǎo)體端運動,從而形成導(dǎo)通電流。同理,當(dāng)二極管加上反向電壓(P端接負(fù)極,N端接正極)時,這時在P型半導(dǎo)體端為負(fù)電壓,正電子被聚集在P型半導(dǎo)體端,負(fù)電子則聚集在N型半導(dǎo)體端,電子不移動,其PN結(jié)沒有電流通過,二極管截止。對于MOS管(見圖),在柵極沒有電壓時,由前面分析可知,在源極與漏極之間不會有電流流過,此時MOS管與截止?fàn)顟B(tài)(圖a)。當(dāng)有一個正電壓加在N溝道的MOS管。MOS管柵極上時,由于電場的作用。MOS管是壓控器件,作為開關(guān)時,NMOS只要滿足Vgs>Vgs(th)即可導(dǎo)通,PMOS只要滿足Vgs。哪些是MOS管銷售價格

    首先考察一個更簡單的器件--MOS電容--能更好的理解MOS管。這個器件有兩個電極,一個是金屬,另一個是extrinsicsilicon(外在硅),他們之間由一薄層二氧化硅分隔開。金屬極就是GATE,而半導(dǎo)體端就是backgate或者body。他們之間的絕緣氧化層稱為gatedielectric(柵介質(zhì))。圖示中的器件有一個輕摻雜P型硅做成的backgate。這個MOS電容的電特性能通過把backgate接地,gate接不同的電壓來說明。MOS電容的GATE電位是0V。金屬GATE和半導(dǎo)體BACKGATE在WORKFUNCTION上的差異在電介質(zhì)上產(chǎn)生了一個小電場。在器件中,這個電場使金屬極帶輕微的正電位,P型硅負(fù)電位。這個電場把硅中底層的電子吸引到表面來,它同時把空穴排斥出表面。這個電場太弱了,所以載流子濃度的變化非常小,對器件整體的特性影響也非常小。當(dāng)MOS電容的GATE相對于BACKGATE正偏置時發(fā)生的情況。穿過GATEDIELECTRIC的電場加強(qiáng)了,有更多的電子從襯底被拉了上來。同時,空穴被排斥出表面。隨著GATE電壓的升高,會出現(xiàn)表面的電子比空穴多的情況。由于過剩的電子,硅表層看上去就像N型硅。摻雜極性的反轉(zhuǎn)被稱為inversion,反轉(zhuǎn)的硅層叫做channel。隨著GATE電壓的持續(xù)不斷升高,越來越多的電子在表面積累。哪些是MOS管銷售價格MOS,是MOSFET的縮寫。

    當(dāng)GATE和BACKGATE之間的電壓差小于閾值電壓時,不會形成channel。當(dāng)電壓差超過閾值電壓時,channel就出現(xiàn)了。MOS電容:(A)未偏置(VBG=0V),(B)反轉(zhuǎn)(VBG=3V),(C)積累(VBG=-3V)。正是當(dāng)MOS電容的GATE相對于backgate是負(fù)電壓時的情況。電場反轉(zhuǎn),往表面吸引空穴排斥電子。硅表層看上去更重的摻雜了,這個器件被認(rèn)為是處于accumulation狀態(tài)了。MOS電容的特性能被用來形成MOS管。Gate,電介質(zhì)和backgate保持原樣。在GATE的兩邊是兩個額外的選擇性摻雜的區(qū)域。其中一個稱為source,另一個稱為drain。假設(shè)source和backgate都接地,drain接正電壓。只要GATE對BACKGATE的電壓仍舊小于閾值電壓,就不會形成channel。Drain和backgate之間的PN結(jié)反向偏置,所以只有很小的電流從drain流向backgate。如果GATE電壓超過了閾值電壓,在GATE電介質(zhì)下就出現(xiàn)了channel。這個channel就像一薄層短接drain和source的N型硅。由電子組成的電流從source通過channel流到drain??偟膩碚f,只有在gate對source電壓V超過閾值電壓Vt時,才會有drain電流。

    而漏極一端電壓小,其值為VGD=vGS-vDS,因而這里溝道薄。但當(dāng)vDS較?。╲DS隨著vDS的增大,靠近漏極的溝道越來越薄,當(dāng)vDS增加到使VGD=vGS-vDS=VT(或vDS=vGS-VT)時,溝道在漏極一端出現(xiàn)預(yù)夾斷,如圖2(b)所示。再繼續(xù)增大vDS,夾斷點將向源極方向移動,如圖2(c)所示。由于vDS的增加部分幾乎全部降落在夾斷區(qū),故iD幾乎不隨vDS增大而增加,管子進(jìn)入飽和區(qū),iD幾乎由vGS決定。N溝道增強(qiáng)型MOS管的特性曲線、電流方程及參數(shù)(1)特性曲線和電流方程1)輸出特性曲線N溝道增強(qiáng)型MOS管的輸出特性曲線如圖1(a)所示。與結(jié)型場效應(yīng)管一樣,其輸出特性曲線也可分為可變電阻區(qū)、飽和區(qū)、截止區(qū)和擊穿區(qū)幾部分。2)轉(zhuǎn)移特性曲線轉(zhuǎn)移特性曲線如圖1(b)所示,由于場效應(yīng)管作放大器件使用時是工作在飽和區(qū)(恒流區(qū)),此時iD幾乎不隨vDS而變化,即不同的vDS所對應(yīng)的轉(zhuǎn)移特性曲線幾乎是重合的,所以可用vDS大于某一數(shù)值(vDS>vGS-VT)后的一條轉(zhuǎn)移特性曲線代替飽和區(qū)的所有轉(zhuǎn)移特性曲線。3)iD與vGS的近似關(guān)系與結(jié)型場效應(yīng)管相類似。在飽和區(qū)內(nèi),iD與vGS的近似關(guān)系式為式中IDO是vGS=2VT時的漏極電流iD。(2)參數(shù)MOS管的主要參數(shù)與結(jié)型場效應(yīng)管基本相同,只是增強(qiáng)型MOS管中不用夾斷電壓VP。工作溫度范圍很寬,從-55°C至+150°C左右。

    對于電池供電的便攜式電子設(shè)備來說,電路的工作電壓低(以鋰電池為例,工作電壓~),因此,電源芯片的工作電壓較低。MOS管具有很低的導(dǎo)通電阻,消耗能量較低,在目前流行的高效DC-DC芯片中多采用MOS管作為功率開關(guān)。但是由于MOS管的寄生電容大,一般情況下NMOS開關(guān)管的柵極電容高達(dá)幾十皮法。這對于設(shè)計高工作頻率DC-DC轉(zhuǎn)換器開關(guān)管驅(qū)動電路的設(shè)計提出了更高的要求。在低電壓ULSI設(shè)計中有多種CMOS、BiCMOS采用自舉升壓結(jié)構(gòu)的邏輯電路和作為大容性負(fù)載的驅(qū)動電路。這些電路能夠在低于1V電壓供電條件下正常工作,并且能夠在負(fù)載電容1~2pF的條件下工作頻率能夠達(dá)到幾十兆甚至上百兆赫茲。本文正是采用了自舉升壓電路,設(shè)計了一種具有大負(fù)載電容驅(qū)動能力的,適合于低電壓、高開關(guān)頻率升壓型DC-DC轉(zhuǎn)換器的驅(qū)動電路。電路基于SamsungAHP615BiCMOS工藝設(shè)計并經(jīng)過Hspice仿真驗證,在供電電壓,負(fù)載電容為60pF時,工作頻率能夠達(dá)到5MHz以上。MOS開關(guān)管損失不管是NMOS還是PMOS,導(dǎo)通后都有導(dǎo)通電阻存在,這樣電流就會在這個電阻上消耗能量,這部分消耗的能量叫做導(dǎo)通損耗。選擇導(dǎo)通電阻小的MOS管會減小導(dǎo)通損耗。現(xiàn)在的小功率MOS管導(dǎo)通電阻一般在幾十毫歐左右,幾毫歐的也有。MOS管有 三個引腳名稱:G:gate 柵極;S:source 源極;D:drain 漏極。哪些是MOS管銷售價格

放大倍數(shù)大、噪聲小、功耗低等優(yōu)良性能。哪些是MOS管銷售價格

    低壓mos管與高壓mos管的區(qū)別是什么?如何分類?一、MOS的構(gòu)造MOS管的構(gòu)造是在一塊摻雜濃度較低的P型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個高摻雜濃度的N+區(qū),并用金屬鋁引出兩個電極,分別作為漏極D和源極S。然后在漏極和源極之間的P型半導(dǎo)體表面復(fù)蓋一層很薄的二氧化硅(Si02)絕緣層膜,在再這個絕緣層膜上裝上一個鋁電極,作為柵極G。這就構(gòu)成了一個N溝道(NPN型)增強(qiáng)型MOS管。它的柵極和其它電極間是絕緣的。同樣用上述相同的方法在一塊摻雜濃度較低的N型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個高摻雜濃度的P+區(qū),及上述相同的柵極制作過程,就制成為一個P溝道(PNP型)增強(qiáng)型MOS管。圖1-1所示(a)、(b)分別是P溝道MOS管道結(jié)構(gòu)圖和符號。二、MOS管的分類MOSFET是FET的一種(另一種是JFET),可以被制造成增強(qiáng)型或耗盡型,P溝道或N溝道4種類型,但實際應(yīng)用的只有增強(qiáng)型的N溝道MOS管和增強(qiáng)型的P溝道MOS管,所以通常提到NMOS,或者PMOS指的就是這兩種。MOS管的分類方法有多種分類方法:1、按電壓分類可分為中低壓mos管和高壓mos管2、按功率分類可分為大功率、率和小功率mos管3、可分為結(jié)型管和絕緣柵型(1)、結(jié)型管。哪些是MOS管銷售價格

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