河南AZO陶瓷靶材 江蘇迪納科精細材料股份供應

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發(fā)布時間:2024-08-09

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研究直流磁控反應濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA,河南AZO陶瓷靶材、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導毒化發(fā)生.

ITO薄膜作為一種重要的透明導電氧化物半導體材料,因具有良好的導電性能及光透射率廣泛應用于液晶顯示、太陽能電池、靜電屏蔽、電致發(fā)光等技術中,河南AZO陶瓷靶材,河南AZO陶瓷靶材,用氧化銦+氧化錫燒結體作為靶材,直流磁控反應濺射法制備ITO薄膜與用銦錫合金靶相比,具有沉積速度快,膜質(zhì)優(yōu)良,工藝易控等優(yōu)點成為目前的主流?但是,此法成膜過程中會經(jīng)常發(fā)生??靶材表面黑色化,生成黑色不規(guī)則球狀節(jié)瘤,本文稱此現(xiàn)象為靶材毒化,毒化使濺射速率下降,膜質(zhì)劣化,迫使停機清理靶材表面后才能繼續(xù)正常濺射,嚴重影響了鍍膜效率。 ITO靶材是將氧化銦和氧化錫粉末按比例混合后經(jīng)過生產(chǎn)加工成型,再高溫氣氛燒結形成的黑灰色陶瓷半導體。河南AZO陶瓷靶材

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磁控濺射鍍膜是一種新型的氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣的應用。制程反應室內(nèi)部的高溫與高真空環(huán)境,可使這些金屬原子結成晶粒,再透過微影圖案化與蝕刻,終一層層金屬導線,而芯片的數(shù)據(jù)傳輸全靠這些金屬導線。濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、裝飾用品等行業(yè)。河南AZO陶瓷靶材靶材主要用于生成太陽能薄膜電池的背電極,晶體硅太陽能電池較少用到濺射靶材。

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氧化鈮由于其獨特的物理和化學性質(zhì)而被廣地應用于現(xiàn)代技術的許多領域。例如,利用其較強的紫外線吸收能力,可將其用作紫外敏感材料的保護膜;利用其薄膜折射率較高的特性,可與SiO2等配合可制備具有不同折射率的薄膜。由于這些明顯的優(yōu)點,氧化鈮靶材被廣地應用于太陽能電池、液晶顯示器、離子顯示器、收集觸屏、光學玻璃、氣體傳感器等眾多領域。隨著科技的不斷發(fā)展以及應用領域的不斷延伸,氧化鈮靶材的需求量也不斷增大。目前,市場上使用的多的是氧化鈮平面靶材,大都采用真空熱壓法來制備。但是采用該方法,氧化鈮靶坯厚度較大,加工過程中需要通過機加工剖片工藝加工達到所需的厚度要求。

平板顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜,主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極,用量比較大的是氧化銦錫(ITO)靶材,其次還有鉬、鋁、硅等金屬靶材。1)平板顯示面板的生產(chǎn)工藝中,玻璃基板要經(jīng)過多次濺射鍍膜形成ITO 玻璃,然后再經(jīng)過鍍膜,加工組裝用于生產(chǎn)LCD 面板、PDP 面板及OLED 面板等;2)觸控屏的生產(chǎn)則還需將ITO 玻璃進行加工處理、經(jīng)過鍍膜形成電極,再與防護屏等部件組裝加工而成。采用硅靶材濺鍍形成的二氧化硅膜則主要起增加玻璃與ITO 膜的附著力和平整性、表面鈍化和保護等作用,MoAlMo(鉬鋁鉬)靶材鍍膜后蝕刻主要起金屬引線搭橋的作用。此外,為了實現(xiàn)平板顯示產(chǎn)品的抗反射、消影等功能,還可以在鍍膜環(huán)節(jié)中增加相應膜層的鍍膜。ITO在薄膜太陽能電池中的作用是一種透明導電層,在電池中作為透光層主要用于生成太陽能薄膜電池的背電極。

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超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復用到的濺射(Sputtering)工藝屬于PVD技術的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在高真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。一般來說,濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構成,其中,靶坯是高速離子束流轟擊的目標材料,屬于濺射靶材的主要部分,在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜;由于高純度金屬強度較低,而濺射靶材需要安裝在特定的機臺內(nèi)完成濺射過程,機臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合,背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,且需要具備良好的導電、導熱性能。陶瓷靶材的種類很多,應用范圍廣,主要用于微電子領域,顯示器用,存儲等領域.天津濺射陶瓷靶材廠家

目前制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。河南AZO陶瓷靶材

研究直流磁控反應濺射ITO膜過程中ITO靶材的毒化現(xiàn)象,用XRD、EPMA、LECO測氧儀等手段對毒化發(fā)生的機理進行分析,并對若干誘導因素進行討論,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解為In2O造成的,靶材性能及濺射工藝缺陷都可能誘導毒化發(fā)生.ITO薄膜作為一種重要的透明導電氧化物半導體材料,因具有良好的導電性能及光透射率廣泛應用于液晶顯示、太陽能電池、靜電屏蔽、電致發(fā)光等技術中,用氧化銦+氧化錫燒結體作為靶材,直流磁控反應濺射法制備ITO薄膜與用銦錫合金靶相比,具有沉積速度快,膜質(zhì)優(yōu)良,工藝易控等優(yōu)點成為目前的主流?但是,此法成膜過程中會經(jīng)常發(fā)生ITO靶材表面黑色化,生成黑色不規(guī)則球狀節(jié)瘤,本文稱此現(xiàn)象為靶材毒化,毒化使濺射速率下降,膜質(zhì)劣化,迫使停機清理靶材表面后才能繼續(xù)正常濺射,嚴重影響了鍍膜效率。


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江蘇迪納科精細材料股份有限公司成立于2011-07-22,是一家專注于濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材的高新技術企業(yè),公司位于南京市江寧區(qū)芳園西路10號九龍湖國際企業(yè)園創(chuàng)新中心A座8層。公司經(jīng)常與行業(yè)內(nèi)技術專家交流學習,研發(fā)出更好的產(chǎn)品給用戶使用。公司現(xiàn)在主要提供濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材等業(yè)務,從業(yè)人員均有濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材行內(nèi)多年經(jīng)驗。公司員工技術嫻熟、責任心強。公司秉承客戶是上帝的原則,急客戶所急,想客戶所想,熱情服務。公司秉承以人為本,科技創(chuàng)新,市場先導,和諧共贏的理念,建立一支由濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材專家組成的顧問團隊,由經(jīng)驗豐富的技術人員組成的研發(fā)和應用團隊。江蘇迪納科精細材料股份有限公司以誠信為原則,以安全、便利為基礎,以優(yōu)惠價格為濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,等離子噴涂靶材的客戶提供貼心服務,努力贏得客戶的認可和支持,歡迎新老客戶來我們公司參觀。

 

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