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發(fā)布時(shí)間:2024-07-14
靶材主要由靶坯、背板等部分組成:其中,靶坯是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源,即高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的重要部分部分,在濺射鍍膜過(guò)程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上,制成電子薄膜;由于高純度金屬?gòu)?qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在特定的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過(guò)程,機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓,廣東氧化物陶瓷靶材廠家、高真空環(huán)境。因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過(guò)不同的焊接工藝進(jìn)行接合,廣東氧化物陶瓷靶材廠家,背板主要起到固定濺射靶材的作用,廣東氧化物陶瓷靶材廠家,需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。靶材開(kāi)裂影響因素裂紋形成通常發(fā)生在陶瓷濺射靶材和脆性材料濺射靶材(如鉻、銻、鉍等)中。廣東氧化物陶瓷靶材廠家
AZO透明導(dǎo)電薄膜具有高可見(jiàn)光透過(guò)率和低電阻率的特點(diǎn),因此可以作為平面顯示器和太陽(yáng)能平面電極材料,也可用在節(jié)能方面,如建筑玻璃表面和汽車玻璃表面近年來(lái),隨著液晶顯示、觸控面板、有機(jī)發(fā)光顯示、太陽(yáng)能電池等的發(fā)展,使得透明導(dǎo)電薄膜成為關(guān)鍵性材料之一。目前,常用的錫摻雜氧化鋼(ITO)透明導(dǎo)電薄膜材料中的金屬銦屬于稀缺資源,開(kāi)發(fā)具有透光、導(dǎo)電特性的“非銦”材料已成為研究的熱點(diǎn)之一。由于氧化鋅基(ZnO)透明導(dǎo)電薄膜價(jià)格較為低廉,且不具毒性,在發(fā)展上具有相當(dāng)?shù)膬?yōu)異性。因此,對(duì)于氧化鋅薄膜材料及其制備技術(shù)的研發(fā),引起了大家的重視。AZO薄膜是一種透明導(dǎo)電膜,具有與ITO薄膜相比擬的光學(xué)和電學(xué)特性,并具有制備工藝簡(jiǎn)單、價(jià)格低、*和穩(wěn)定性好等特點(diǎn),被認(rèn)為是ITO薄膜的比較好替代材料。云南智能玻璃陶瓷靶材咨詢報(bào)價(jià)陶瓷靶材按化學(xué)組成,分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物靶材和硫化物靶材等。
背板材料:無(wú)氧銅(OFC)–目前經(jīng)常使用的作背板的材料。因?yàn)闊o(wú)氧銅具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性,而且比較容易機(jī)械加工。如果保養(yǎng)適當(dāng),無(wú)氧銅背板可以重復(fù)使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下,如需要進(jìn)行高溫貼合的條件下,無(wú)氧銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會(huì)使用金屬鉬為背板材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無(wú)法與無(wú)氧銅匹配,同樣也需要使用金屬鉬作為背板材料。不銹鋼管(SST)–目前**常使用不銹鋼管作為旋轉(zhuǎn)靶材的背管,因?yàn)椴讳P鋼管具有良好的強(qiáng)度和導(dǎo)熱性而且非常經(jīng)濟(jì)。
背板重復(fù)使用大部分背板可以重復(fù)使用,尤其是采用金屬銦進(jìn)行貼合的比較容易進(jìn)行清潔和重新使用。如果是采用其他貼合劑(包括環(huán)氧樹(shù)脂)則可能需要采用機(jī)械處理的方式對(duì)背板表面處理后才能重復(fù)使用。當(dāng)我們收到用戶提供的已使用過(guò)的背板后,我們會(huì)首先進(jìn)行卸靶處理(如適用)并且對(duì)背板進(jìn)行完全檢查,檢查的重點(diǎn)包括背板的平整度,完整性及密封性等。我們會(huì)通知用戶對(duì)背板的檢查結(jié)果,如我們發(fā)現(xiàn)有需要維修的地方會(huì)書(shū)面通知客戶并提供維修報(bào)價(jià)。
IGZO由In2O3、Ga2O3和ZnO相互摻雜得到,是一種透明金屬氧化物半導(dǎo)體材料。IGZO為n型半導(dǎo)體材料,存在3.5 eV左右的帶隙,電子遷移率比非晶硅高1~2個(gè)數(shù)量級(jí),其比較大特點(diǎn)是在非晶狀態(tài)下依然具有較高的電子遷移率。由于沒(méi)有晶界的影響,非晶結(jié)構(gòu)材料比多晶材料有更好的均勻性,對(duì)于大面積制備有巨大的優(yōu)勢(shì)。正因?yàn)镮GZO TFT具有高遷移率、非晶溝道結(jié)構(gòu)、全透明和低溫制備這四大優(yōu)勢(shì),使得IGZO作為TFT溝道材料比多晶硅和非晶硅更符合顯示器大尺寸化、高清、柔性和低能耗的未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中,其主要應(yīng)用分為:顯示行業(yè)、薄膜太陽(yáng)能電池、功能性玻璃,等三大領(lǐng)域。
ITO(氧化銦錫)靶材是濺射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一種,在顯示靶材中占比將近60%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過(guò)一系列的生產(chǎn)工藝加工成型,再高溫氣氛燒結(jié)(1600度,通氧氣燒結(jié))形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。中低端ITO靶材有玻璃鍍膜靶材、發(fā)熱膜和熱反射膜靶材,包括汽車的顯示屏、一些儀器儀表的顯示。優(yōu)異的ITO靶材主要用于顯示器薄膜靶材、集成電路薄膜靶材以及磁記錄和光記錄膜靶材,尤其用于大面積、大規(guī)格的LED、OLED等領(lǐng)域,具備高密度、高純度、高均勻性等特點(diǎn)。
目前制備太陽(yáng)能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)等。安徽顯示行業(yè)陶瓷靶材廠家
從整體上看,ITO在光電綜合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的優(yōu)勢(shì)或?qū)榘胁膸?lái)降本空間。廣東氧化物陶瓷靶材廠家
靶材安裝注意事項(xiàng)靶材安裝過(guò)程中非常重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開(kāi)裂或彎曲,背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響,導(dǎo)致在濺射過(guò)程中熱量無(wú)法散發(fā)**終會(huì)造成靶材開(kāi)裂或脫靶。為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)注意要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射***冷卻壁的平整度,同時(shí)確保密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中可能會(huì)產(chǎn)生的污垢會(huì)沉積在陰極冷卻水槽內(nèi),所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。有些陰極設(shè)計(jì)與陽(yáng)極的空隙較小,所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽(yáng)極之間沒(méi)有接觸也不能存在導(dǎo)體,否則會(huì)產(chǎn)生短路。廣東氧化物陶瓷靶材廠家
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