中國電子工程用高純硅烷行業(yè)投資現(xiàn)狀與前景戰(zhàn)略分析報告2023-2028年
【報告編號】: 389749
【出版時間】: 2023年2月
【出版機構(gòu)】: 中研智業(yè)研究院
【交付方式】: EMIL電子版或特快專遞
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第一章 半導(dǎo)體、光伏產(chǎn)業(yè)用高純硅烷概述 16
1.1 高純硅烷簡介 16
1.2 高純硅烷的主要基本性能與質(zhì)量指標(biāo) 17
1.3 高純硅烷的主要應(yīng)用領(lǐng)域 18
1.4 高純硅烷在發(fā)展我國電子工業(yè)中的重要作用 19
第二章 電子特種氣體及其應(yīng)用市場 20
2.1 電子特種氣體概述 20
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術(shù)方面 21
2.3 電子特種氣體的純凈度要求 23
2.4 電子特種氣體產(chǎn)品市場競爭的焦點問題 25
2.4.1 對電子特種氣體雜質(zhì)、純度要求的問題 25
2.4.2 氣體配送及供應(yīng)問題 26
2.4.3 儲存、使用中的安全性問題 27
2.4.4 成本性問題 28
2.5 國內(nèi)外電子特種氣體行業(yè)發(fā)展概述 29
2.5.1 境外電子特種氣體生產(chǎn)與市場情況 29
2.5.2 國內(nèi)電子特種氣體行業(yè)及其發(fā)展 30
第三章 高純硅烷氣體性能指標(biāo)及制備、凈化的工藝路線 33
3.1 高純硅烷的性能指標(biāo) 33
3.2 高純硅烷工業(yè)化制備的典型工藝路線 34
3.2.1 制備工藝法概述 34
3.2.2 硅化鎂合金法制備硅烷 34
3.2.2.1 工藝過程 34
3.2.2.2 主要反應(yīng) 36
3.2.2.3 工藝特點 36
3.2.2.4 工藝法存在的問題 37
3.2.3 三氯氫硅還原法制備硅烷 37
3.2.3.1 工藝過程 37
3.2.3.2 主要反應(yīng) 39
3.2.3.3 工藝特點 39
3.2.3.4 工藝法存在的問題 40
3.2.4 四氟化硅還原法制備硅烷 41
3.2.4.1 工藝過程 41
3.2.4.2 主要反應(yīng) 41
3.2.4.3 工藝特點 41
3.2.4.4 工藝法存在的問題 42
3.2.5 氯硅烷歧化法制備硅烷 42
3.2.5.1 工藝過程 42
3.2.5.2 主要反應(yīng) 42
3.2.5.3 工藝特點 42
3.2.5.4 工藝法存在的問題 43
3.2.6 烷氧基硅烷歧化法 43
3.2.6.1 工藝過程 43
3.2.6.2 主要反應(yīng) 44
3.2.6.3 工藝特點 44
3.2.6.4 工藝法存在的問題 44
3.3 高純硅烷氣體的凈化工藝路線 45